Структура и фазовый состав технически чистого титана, подвергнутого электровзрывному алитированию и последующей электронно-лучевой обработке; Физика и химия обработки материалов; № 4

Dades bibliogràfiques
Parent link:Физика и химия обработки материалов.— , 1967-
№ 4.— 2010.— [С. 51-56]
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Кафедра общей химии и химической технологии, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Лаборатория № 46
Altres autors: Григорьев С. В., Девятков В. Н., Коваль Н. Н. Николай Николаевич, Тересов А. Д.
Sumari:Заглавие с экрана
Представлены результаты исследования эффекта усиления эмиссии электронов в плазмонаполненном диоде на основе плазменного катода с сеточной стабилизацией границы плазмы при ускоряющем напряжении до 20 kV. Суть явления состоит в том, что при увеличении рабочего давления <= 10-2 Pa и продольного магнитного поля <= 20 mT происходит существенное (в некоторых случаях в 2 и более раз) увеличение тока в ускоряющем промежутке. Экспериментально показано, что наиболее вероятным механизмом, ответственным за данное явление, является вторичная ионно-электронная эмиссия, возникающая с поверхности эмиссионного электрода, в результате ее бомбардировки ионами, поступающими из плазмы, генерируемой электронным пучком в пространстве дрейфа, и ускоренными в слое пространственного заряда между поверхностью эмиссионного электрода и открытой границей пучковой (анодной) плазмы.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:rus
Publicat: 2010
Matèries:
Accés en línia:http://elibrary.ru/item.asp?id=15174626
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648436

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 648436
005 20250221112239.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\13593 
035 |a RU\TPU\network\13589 
090 |a 648436 
100 |a 20160519d2010 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Структура и фазовый состав технически чистого титана, подвергнутого электровзрывному алитированию и последующей электронно-лучевой обработке  |d Structure and phase composition of commercial pure Ti after electroexplosive aluminizing and following electron-beam treatment  |f С. В. Григорьев [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 5 назв.] 
330 |a Представлены результаты исследования эффекта усиления эмиссии электронов в плазмонаполненном диоде на основе плазменного катода с сеточной стабилизацией границы плазмы при ускоряющем напряжении до 20 kV. Суть явления состоит в том, что при увеличении рабочего давления <= 10-2 Pa и продольного магнитного поля <= 20 mT происходит существенное (в некоторых случаях в 2 и более раз) увеличение тока в ускоряющем промежутке. Экспериментально показано, что наиболее вероятным механизмом, ответственным за данное явление, является вторичная ионно-электронная эмиссия, возникающая с поверхности эмиссионного электрода, в результате ее бомбардировки ионами, поступающими из плазмы, генерируемой электронным пучком в пространстве дрейфа, и ускоренными в слое пространственного заряда между поверхностью эмиссионного электрода и открытой границей пучковой (анодной) плазмы. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Физика и химия обработки материалов  |d 1967- 
463 |t № 4  |v [С. 51-56]  |d 2010 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электровзрывное легирование 
610 1 |a электронно-лучевая обработка 
610 1 |a фазовый состав 
701 1 |a Григорьев  |b С. В. 
701 1 |a Девятков  |b В. Н. 
701 1 |a Коваль  |b Н. Н.  |c специалист в области электроники  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1948-  |g Николай Николаевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31831  |9 15926 
701 1 |a Тересов  |b А. Д. 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Институт физики высоких технологий  |b Кафедра общей химии и химической технологии  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21253  |9 27944 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Физико-технический институт  |b Лаборатория № 46  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19319  |9 27440 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160519  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=15174626 
942 |c CF