Структура и фазовый состав технически чистого титана, подвергнутого электровзрывному алитированию и последующей электронно-лучевой обработке

Dettagli Bibliografici
Parent link:Физика и химия обработки материалов.— , 1967-
№ 4.— 2010.— [С. 51-56]
Enti autori: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Кафедра общей химии и химической технологии, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Лаборатория № 46
Altri autori: Григорьев С. В., Девятков В. Н., Коваль Н. Н. Николай Николаевич, Тересов А. Д.
Riassunto:Заглавие с экрана
Представлены результаты исследования эффекта усиления эмиссии электронов в плазмонаполненном диоде на основе плазменного катода с сеточной стабилизацией границы плазмы при ускоряющем напряжении до 20 kV. Суть явления состоит в том, что при увеличении рабочего давления <= 10-2 Pa и продольного магнитного поля <= 20 mT происходит существенное (в некоторых случаях в 2 и более раз) увеличение тока в ускоряющем промежутке. Экспериментально показано, что наиболее вероятным механизмом, ответственным за данное явление, является вторичная ионно-электронная эмиссия, возникающая с поверхности эмиссионного электрода, в результате ее бомбардировки ионами, поступающими из плазмы, генерируемой электронным пучком в пространстве дрейфа, и ускоренными в слое пространственного заряда между поверхностью эмиссионного электрода и открытой границей пучковой (анодной) плазмы.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Pubblicazione: 2010
Soggetti:
Accesso online:http://elibrary.ru/item.asp?id=15174626
Natura: Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648436
Descrizione
Riassunto:Заглавие с экрана
Представлены результаты исследования эффекта усиления эмиссии электронов в плазмонаполненном диоде на основе плазменного катода с сеточной стабилизацией границы плазмы при ускоряющем напряжении до 20 kV. Суть явления состоит в том, что при увеличении рабочего давления <= 10-2 Pa и продольного магнитного поля <= 20 mT происходит существенное (в некоторых случаях в 2 и более раз) увеличение тока в ускоряющем промежутке. Экспериментально показано, что наиболее вероятным механизмом, ответственным за данное явление, является вторичная ионно-электронная эмиссия, возникающая с поверхности эмиссионного электрода, в результате ее бомбардировки ионами, поступающими из плазмы, генерируемой электронным пучком в пространстве дрейфа, и ускоренными в слое пространственного заряда между поверхностью эмиссионного электрода и открытой границей пучковой (анодной) плазмы.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса