Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра теоретической и экспериментальной физики, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, & Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich. (2016). Deposition of ultrahard Ti–Si–N coatings by pulsed high-current reactive magnetron sputtering; Technical Physics; Vol. 61, iss. 2. 2016. https://doi.org/10.1134/S1063784216020171
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра теоретической и экспериментальной физики, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, and Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich. Deposition of Ultrahard Ti–Si–N Coatings by Pulsed High-current Reactive Magnetron Sputtering; Technical Physics; Vol. 61, Iss. 2. 2016, 2016. https://doi.org/10.1134/S1063784216020171.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра теоретической и экспериментальной физики, et al. Deposition of Ultrahard Ti–Si–N Coatings by Pulsed High-current Reactive Magnetron Sputtering; Technical Physics; Vol. 61, Iss. 2. 2016, 2016. https://doi.org/10.1134/S1063784216020171.