Influence of the substrate bias on the stoichiometry and structure of RF-magnetron sputter-deposited silver-containing calcium phosphate coatings; Materialwissenschaft und Werkstofftechnik; Vol. 44, iss. 2-3
| Parent link: | Materialwissenschaft und Werkstofftechnik.— , 1988- Vol. 44, iss. 2-3.— 2013.— [P. 218-225] |
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| Údar corparáideach: | |
| Rannpháirtithe: | , , , , , , , , , |
| Achoimre: | Title screen A coating on the basis of silver-containing hydroxyapatite (silver-hydroxyapatite) was deposited by radio frequency (RF) magnetron sputtering. X-ray diffractometry, scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy, and ellipsometry were used to analyse the change in structure and stoichiometry of the coatings upon the change of the negative electrical bias (-50 V and -100 V) on the substrate. The chemical composition of the sputter-deposited coating was identical to the target. However, an increase in the negative electrical bias on the substrate led to a decrease of the coating thickness. In addition, the average size of the grains decreased from 55 ± 15 nm (grounded substrate) up to 30 ± 10 nm when an electrical bias of -100 V was applied. Silber-dotierte Hydroxylapatit-Beschichtungen wurden durch RF-Magnetron Spritzen hergestellt. Die Abhängigkeit der Schichteigenschaften (Struktur, Stöchiometrie) von der elektrischen Vorspannung (-50 V und -100 V) wurde durch Röntgenbeugung, Rasterelektronenmikroskopie, energiedispersive Röntgenspektroskopie und Ellipsometrie untersucht. Die chemische Zusammensetzung der Beschichtungen war identisch mit der Zusammensetzung des Targets. Eine Erhöhung der elektrisch negativen DC-Vorspannung auf dem Substrat führte zu einer Abnahme der Schichtdicke. Die mittlere Korngröße betrug 55 ± 15 nm bei einem geerdeten Substrat und 30 ± 10 nm bei einer elektrischen Vorspannung von -100 V. |
| Teanga: | Béarla |
| Foilsithe / Cruthaithe: |
2013
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| Ábhair: | |
| Rochtain ar líne: | http://dx.doi.org/10.1002/mawe.201300101 |
| Formáid: | Leictreonach Caibidil leabhair |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647505 |
| Achoimre: | Title screen A coating on the basis of silver-containing hydroxyapatite (silver-hydroxyapatite) was deposited by radio frequency (RF) magnetron sputtering. X-ray diffractometry, scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy, and ellipsometry were used to analyse the change in structure and stoichiometry of the coatings upon the change of the negative electrical bias (-50 V and -100 V) on the substrate. The chemical composition of the sputter-deposited coating was identical to the target. However, an increase in the negative electrical bias on the substrate led to a decrease of the coating thickness. In addition, the average size of the grains decreased from 55 ± 15 nm (grounded substrate) up to 30 ± 10 nm when an electrical bias of -100 V was applied. Silber-dotierte Hydroxylapatit-Beschichtungen wurden durch RF-Magnetron Spritzen hergestellt. Die Abhängigkeit der Schichteigenschaften (Struktur, Stöchiometrie) von der elektrischen Vorspannung (-50 V und -100 V) wurde durch Röntgenbeugung, Rasterelektronenmikroskopie, energiedispersive Röntgenspektroskopie und Ellipsometrie untersucht. Die chemische Zusammensetzung der Beschichtungen war identisch mit der Zusammensetzung des Targets. Eine Erhöhung der elektrisch negativen DC-Vorspannung auf dem Substrat führte zu einer Abnahme der Schichtdicke. Die mittlere Korngröße betrug 55 ± 15 nm bei einem geerdeten Substrat und 30 ± 10 nm bei einer elektrischen Vorspannung von -100 V. |
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| DOI: | 10.1002/mawe.201300101 |