Surface alloying of Al films/Ti substrate based on high-current pulsed electron beams irradiation; Rare Metals; Vol. 33, iss. 2

Dades bibliogràfiques
Parent link:Rare Metals.— , 1999-
Vol. 33, iss. 2.— 2014.— [P. 155-160]
Altres autors: Mei X. X., Fu J. Q., Li X. N., Rotshtein V. P., Koval N. N. Nikolay Nikolaevich, Ma T. C.
Sumari:Title screen
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:anglès
Publicat: 2014
Matèries:
Accés en línia:http://dx.doi.org/10.1007/s12598-013-0092-3
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647469

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 647469
005 20250212094016.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\12609 
035 |a RU\TPU\network\12608 
090 |a 647469 
100 |a 20160412d2014 k||y0rusy50 ba 
101 0 |a eng 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Surface alloying of Al films/Ti substrate based on high-current pulsed electron beams irradiation  |f X. X. Mei [et al.] 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: p. 159-160 (15 tit.)] 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Rare Metals  |d 1999- 
463 |t Vol. 33, iss. 2  |v [P. 155-160]  |d 2014 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a Ti–Al surface alloy layer 
610 1 |a сильноточное импульсное облучение 
701 1 |a Mei  |b X. X. 
701 1 |a Fu  |b J. Q. 
701 1 |a Li  |b X. N. 
701 1 |a Rotshtein  |b V. P. 
701 1 |a Koval  |b N. N.  |c specialist in the field of electronics  |c Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences  |f 1948-  |g Nikolay Nikolaevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\34748  |9 18098 
701 1 |a Ma  |b T. C. 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20161017  |g RCR 
856 4 |u http://dx.doi.org/10.1007/s12598-013-0092-3 
942 |c CF