Зависимость свойств магнетронных Са-Р покрытий, сформированных из плазмы ВЧ-разряда, от параметров напыления; Физика и химия обработки материалов; № 4

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Parent link:	Физика и химия обработки материалов: научно-технический журнал/ Российская академия наук (РАН), Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова (ИМЕТ).— , 1967- № 4.— 2010.— [С. 57-65]
Άλλοι συγγραφείς:	Сурменев Р. А. Роман Анатольевич, Сурменева М. А. Мария Александровна, Евдокимов К. Е. Кирилл Евгеньевич, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович, Эппле М. Маттиас
Περίληψη:	Заглавие с экрана Методом высокочастотного магнетронного распыления при различной мощности разряда на материалах медицинских имплантатов получены Ca-P покрытия с аморфной и кристаллической структурой. Определены условия получения покрытий с заданной структурой и отношением Ca/Р. Кристаллические покрытия с отношением Ca/P=1,67 близком к стехиометрическому гидроксиапатиту, образуются при высокой (290 Вт) мощности ВЧ-разряда в областях подложки, подвергающихся наиболее интенсивной ионной бомбардировке в процессе напыления. Предложен механизм формирования Ca-P покрытия за счет преимущественного распыления атомов Ca или P из покрытия в зависимости от условий напыления (мощность ВЧ-разряда, время напыления, величина отрицательного напряжения смещения на подложке). By RF magnetron sputtering at different discharge power, Ca-P coatings with amorphous and crystalline structure have been deposited on the materials of medical implants. Conditions for the coatings with a given structure and Ca/P ratio are determined. The crystalline coatings with Ca/P=1,67 ratio close to that for stoichiometric hydroxyapatite is found to be formed at high (290 W) power RF-discharge in the areas of the substrate exposed to the most intense ion bombardment during the deposition process. Mechanism of Ca-P coating formation due to Ca or P preferential resputtering from the coating depending on the deposition conditions (RF-discharge power, sputtering time, the magnitude of negative bias voltage on the substrate) is offered. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Γλώσσα:	Ρωσικά
Έκδοση:	2010
Θέματα:	электронный ресурс труды учёных ТПУ ВЧ-магнетронное распыление гидроксиапатит имплантаты
Διαθέσιμο Online:	http://elibrary.ru/item.asp?id=15174627
Μορφή:	Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647089