Зависимость свойств магнетронных Са-Р покрытий, сформированных из плазмы ВЧ-разряда, от параметров напыления; Физика и химия обработки материалов; № 4
| Parent link: | Физика и химия обработки материалов: научно-технический журнал/ Российская академия наук (РАН), Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова (ИМЕТ).— , 1967- № 4.— 2010.— [С. 57-65] |
|---|---|
| Altres autors: | , , , , |
| Sumari: | Заглавие с экрана Методом высокочастотного магнетронного распыления при различной мощности разряда на материалах медицинских имплантатов получены Ca-P покрытия с аморфной и кристаллической структурой. Определены условия получения покрытий с заданной структурой и отношением Ca/Р. Кристаллические покрытия с отношением Ca/P=1,67 близком к стехиометрическому гидроксиапатиту, образуются при высокой (290 Вт) мощности ВЧ-разряда в областях подложки, подвергающихся наиболее интенсивной ионной бомбардировке в процессе напыления. Предложен механизм формирования Ca-P покрытия за счет преимущественного распыления атомов Ca или P из покрытия в зависимости от условий напыления (мощность ВЧ-разряда, время напыления, величина отрицательного напряжения смещения на подложке). By RF magnetron sputtering at different discharge power, Ca-P coatings with amorphous and crystalline structure have been deposited on the materials of medical implants. Conditions for the coatings with a given structure and Ca/P ratio are determined. The crystalline coatings with Ca/P=1,67 ratio close to that for stoichiometric hydroxyapatite is found to be formed at high (290 W) power RF-discharge in the areas of the substrate exposed to the most intense ion bombardment during the deposition process. Mechanism of Ca-P coating formation due to Ca or P preferential resputtering from the coating depending on the deposition conditions (RF-discharge power, sputtering time, the magnitude of negative bias voltage on the substrate) is offered. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Idioma: | rus |
| Publicat: |
2010
|
| Matèries: | |
| Accés en línia: | http://elibrary.ru/item.asp?id=15174627 |
| Format: | MixedMaterials Electrònic Capítol de llibre |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647089 |
MARC
| LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 647089 | ||
| 005 | 20250204124744.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\12226 | ||
| 090 | |a 647089 | ||
| 100 | |a 20160324d2010 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Зависимость свойств магнетронных Са-Р покрытий, сформированных из плазмы ВЧ-разряда, от параметров напыления |d Dependence of the properties of magnetron Ca-P coatings deposited from the plasma of RF-discharge on the sputtering conditions |f Р. А. Сурменев [и др.] | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 65 (26 назв.)] | ||
| 330 | |a Методом высокочастотного магнетронного распыления при различной мощности разряда на материалах медицинских имплантатов получены Ca-P покрытия с аморфной и кристаллической структурой. Определены условия получения покрытий с заданной структурой и отношением Ca/Р. Кристаллические покрытия с отношением Ca/P=1,67 близком к стехиометрическому гидроксиапатиту, образуются при высокой (290 Вт) мощности ВЧ-разряда в областях подложки, подвергающихся наиболее интенсивной ионной бомбардировке в процессе напыления. Предложен механизм формирования Ca-P покрытия за счет преимущественного распыления атомов Ca или P из покрытия в зависимости от условий напыления (мощность ВЧ-разряда, время напыления, величина отрицательного напряжения смещения на подложке). | ||
| 330 | |a By RF magnetron sputtering at different discharge power, Ca-P coatings with amorphous and crystalline structure have been deposited on the materials of medical implants. Conditions for the coatings with a given structure and Ca/P ratio are determined. The crystalline coatings with Ca/P=1,67 ratio close to that for stoichiometric hydroxyapatite is found to be formed at high (290 W) power RF-discharge in the areas of the substrate exposed to the most intense ion bombardment during the deposition process. Mechanism of Ca-P coating formation due to Ca or P preferential resputtering from the coating depending on the deposition conditions (RF-discharge power, sputtering time, the magnitude of negative bias voltage on the substrate) is offered. | ||
| 333 | |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 | |t Физика и химия обработки материалов |o научно-технический журнал |f Российская академия наук (РАН), Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова (ИМЕТ) |d 1967- | ||
| 463 | |t № 4 |v [С. 57-65] |d 2010 | ||
| 510 | 1 | |a Dependence of the properties of magnetron Ca-P coatings deposited from the plasma of RF-discharge on the sputtering conditions |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a ВЧ-магнетронное распыление | |
| 610 | 1 | |a гидроксиапатит | |
| 610 | 1 | |a имплантаты | |
| 701 | 1 | |a Сурменев |b Р. А. |c физик |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, доцент, кандидат физико-математических наук |f 1982- |g Роман Анатольевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25831 |9 11704 | |
| 701 | 1 | |a Сурменева |b М. А. |c специалист в области материаловедения |c инженер-исследователь Томского политехнического университета, старший научный сотрудник |f 1984- |g Мария Александровна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25832 |9 11705 | |
| 701 | 1 | |a Евдокимов |b К. Е. |c физик |c доцент Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук |f 1976- |g Кирилл Евгеньевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31790 |9 15901 | |
| 701 | 1 | |a Пичугин |b В. Ф. |c российский физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1944-2021 |g Владимир Федорович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25824 |9 11697 | |
| 701 | 1 | |a Эппле |b М. |g Маттиас | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20161209 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://elibrary.ru/item.asp?id=15174627 | |
| 942 | |c CF | ||