Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий
| Parent link: | Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957- Т. 57, № 10/3.— 2014.— [С. 104-108] |
|---|---|
| Hovedforfatter: | |
| Institution som forfatter: | |
| Andre forfattere: | , |
| Summary: | Заглавие с экрана Разработана математическая модель тепловых процессов в мишени и эмиссии атомов с ее поверхности при работе импульсных магнетронных распылительных систем (МРС). С ее помощью выявлены параметры магнетронов (мощность, длительность импульсов), которые способны обеспечить возникновение испарения. Показана его роль в усилении эмиссии атомов с поверхности мишени. Благодаря испарению количество вещества, удаляемого с поверхности мишени за один импульс тока, увеличивается более чем в 10 раз. Рассмотрена возможность существенного усиления эмиссии атомов с поверхности теплоизолированной мишени МРС, работающей с импульсно-периодическим источником питания. The mathematical model, which describes the thermal processes in a target and atomic emission from its surface when using pulsed magnetron sputtering systems, is developed The magnetron parameters (power, pulse duration) which are able to provide occurrence of evaporation are revealed. Its role in intensification of atomic emission is shown. Due to evaporation the amount of substance removed from the target surface at a current pulse is increased by more than 10 times. The possibility of substantial intensification of atomic emission from the surface of heat insulated target of the magnetron sputtering systems with repetitively pulsed power sources is considered. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Sprog: | russisk |
| Udgivet: |
2014
|
| Fag: | |
| Online adgang: | http://elibrary.ru/item.asp?id=22980209 |
| Format: | Electronisk Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=646198 |
MARC
| LEADER | 00000nla0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 646198 | ||
| 005 | 20250402121228.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\11332 | ||
| 035 | |a RU\TPU\network\10100 | ||
| 090 | |a 646198 | ||
| 100 | |a 20160215d2014 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий |d The analysis of magnetron sputtering systems possibilities for high-rate deposition of functional coatings |f Г. А. Блейхер, В. П. Кривобоков, А. В. Юрьева | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 108 (5 назв.)] | ||
| 330 | |a Разработана математическая модель тепловых процессов в мишени и эмиссии атомов с ее поверхности при работе импульсных магнетронных распылительных систем (МРС). С ее помощью выявлены параметры магнетронов (мощность, длительность импульсов), которые способны обеспечить возникновение испарения. Показана его роль в усилении эмиссии атомов с поверхности мишени. Благодаря испарению количество вещества, удаляемого с поверхности мишени за один импульс тока, увеличивается более чем в 10 раз. Рассмотрена возможность существенного усиления эмиссии атомов с поверхности теплоизолированной мишени МРС, работающей с импульсно-периодическим источником питания. | ||
| 330 | |a The mathematical model, which describes the thermal processes in a target and atomic emission from its surface when using pulsed magnetron sputtering systems, is developed The magnetron parameters (power, pulse duration) which are able to provide occurrence of evaporation are revealed. Its role in intensification of atomic emission is shown. Due to evaporation the amount of substance removed from the target surface at a current pulse is increased by more than 10 times. The possibility of substantial intensification of atomic emission from the surface of heat insulated target of the magnetron sputtering systems with repetitively pulsed power sources is considered. | ||
| 333 | |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 | |t Известия вузов. Физика |o научный журнал |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) |d 1957- | ||
| 463 | |t Т. 57, № 10/3 |v [С. 104-108] |d 2014 | ||
| 510 | 1 | |a The analysis of magnetron sputtering systems possibilities for high-rate deposition of functional coatings |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a магнетроны | |
| 610 | 1 | |a распылительные системы | |
| 610 | 1 | |a эмиссия | |
| 610 | 1 | |a атомы | |
| 610 | 1 | |a распыление | |
| 610 | 1 | |a покрытия | |
| 610 | 1 | |a осаждение | |
| 610 | 1 | |a magnetron sputtering system | |
| 610 | 1 | |a atomic emission | |
| 610 | 1 | |a evaporation | |
| 610 | 1 | |a sputtering | |
| 610 | 1 | |a high-rate coating deposition | |
| 700 | 1 | |a Блейхер |b Г. А. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1961- |g Галина Алексеевна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28948 |9 13681 | |
| 701 | 1 | |a Кривобоков |b В. П. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1948- |g Валерий Павлович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\21971 |9 9290 | |
| 701 | 1 | |a Юрьева |b А. В. |c специалист в области водородной энергетики и плазменных технологий |c ассистент Томского политехнического университета |f 1983- |g Алена Викторовна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30232 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18735 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20160215 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://elibrary.ru/item.asp?id=22980209 | |
| 942 | |c CF | ||