Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target
| Источник: | Vacuum Vol. 124.— 2016.— [P. 11-17] |
|---|---|
| Автор-организация: | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) |
| Другие авторы: | Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Sadykova I. |
| Примечания: | Title screen The regularities of energy and matter transfer in the magnetron sputtering systems (MSS) with liquid-phase targets were analyzed. For this purpose a mathematical model of heat and erosion processes in a thermally insulated target of MSS has been developed and the problem of energy balance in a substrate and its heating during coating deposition was solved. The model is based on the fact that the flow of atoms from the surface of the liquid-phase target under the action of plasma consists of two independent components: sputtered and vaporized particles. The reliability of this model is confirmed by a good agreement between the calculated and experimental data. Using the model developed the regularities of the rate of the target surface erosion and metal coatings deposition were revealed. We investigated the effect of the ion current power density and material properties of the cathode. The calculations according to this model and experiments show the growth rate of metal coatings reaches from 100 to 1000 nm/s when intense evaporation occurs. It is one or two orders of magnitude higher than the rate of coating deposition when using solid target. The results can be useful for the development of technologies of high-rate coating deposition. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Опубликовано: |
2016
|
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.009 |
| Формат: | Электронный ресурс Статья |
| Запись в KOHA: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=645928 |
Схожие документы
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
Опубликовано: (2016)
Опубликовано: (2016)
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
Опубликовано: (2017)
Опубликовано: (2017)
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
по: Shevchenko I. M.
Опубликовано: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
по: Shevchenko I. M.
Опубликовано: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
High-rate magnetron sputtering with hot target
Опубликовано: (2016)
Опубликовано: (2016)
Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью
по: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
Опубликовано: (2015)
по: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
Опубликовано: (2015)
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
Опубликовано: (2017)
Опубликовано: (2017)
Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition
Опубликовано: (2018)
Опубликовано: (2018)
The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering
Опубликовано: (2018)
Опубликовано: (2018)
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target
Опубликовано: (2016)
Опубликовано: (2016)
Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий
по: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Опубликовано: (2021)
по: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Опубликовано: (2021)
Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
по: Рогожников Д. С.
Опубликовано: (2016)
по: Рогожников Д. С.
Опубликовано: (2016)
Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
Опубликовано: (2016)
Опубликовано: (2016)
Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering
по: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Опубликовано: (2018)
по: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Опубликовано: (2018)
Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий
по: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Опубликовано: (2020)
по: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Опубликовано: (2020)
Deposition of calcium phosphate coatings using radio frequency magnetron sputtering of substituted β-tricalcium phosphate targets
Опубликовано: (2018)
Опубликовано: (2018)
Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью
Опубликовано: (2018)
Опубликовано: (2018)
Сравнительный анализ производительности и энергоэффективности получения металлических покрытий с использованием мощных импульсных ионных пучков и плазмы магнетронного разряда
по: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Опубликовано: (2012)
по: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Опубликовано: (2012)
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit
Опубликовано: (2016)
Опубликовано: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source: Microstructure and functional properties of CrNx coatings
Опубликовано: (2022)
Опубликовано: (2022)
High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
Magnetron sputtering system
по: Lazarev A. V.
Опубликовано: (2015)
по: Lazarev A. V.
Опубликовано: (2015)
PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties
Опубликовано: (2017)
Опубликовано: (2017)
Magnetron Discharge in the Diode with a Liquid-Metal Target
Опубликовано: (2004)
Опубликовано: (2004)
Оптические характеристики плазмы магнетронного разряда в условиях осаждения оксидов и оксинитридов титана
по: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Опубликовано: (2010)
по: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Опубликовано: (2010)
Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition
по: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Опубликовано: (2016)
по: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Опубликовано: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition
Опубликовано: (2021)
Опубликовано: (2021)
Т. 1
Опубликовано: (1977)
Опубликовано: (1977)
Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук спец. 01.04.07
по: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Опубликовано: (Томск, 2018)
по: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Опубликовано: (Томск, 2018)
Исследование адгезионных свойств кремнийсодержащего кальций-фосфатного покрытия, осажденного методом ВЧ-магнетронного распыления на нагретую подложку
Опубликовано: (2013)
Опубликовано: (2013)
Antibacterial PLGA and PCL membranes, modified by magnetron sputtering method of copper target
по: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Опубликовано: (2021)
по: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Опубликовано: (2021)
Formation of Ti-Al-Cr-B-N Coatings by Ion-Magnetron Sputtering of Composite Targets
Опубликовано: (2017)
Опубликовано: (2017)
Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge
Опубликовано: (2004)
Опубликовано: (2004)
Calcium Phosphate Targets for RF Magnetron Sputtering of Biocoatings
Опубликовано: (2019)
Опубликовано: (2019)
Synthesis of hafnium-based max phases by magnetron sputtering
по: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
Опубликовано: (2018)
по: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
Опубликовано: (2018)
Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС
по: Киселева Д. В.
Опубликовано: (2015)
по: Киселева Д. В.
Опубликовано: (2015)
Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets
Опубликовано: (2018)
Опубликовано: (2018)
Схожие документы
-
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
Опубликовано: (2019) -
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
Опубликовано: (2016) -
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
Опубликовано: (2017) -
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
по: Shevchenko I. M.
Опубликовано: (Ставрополь, СКФУ, 2022) -
High-rate magnetron sputtering with hot target
Опубликовано: (2016)