Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target
Parent link: | Vacuum Vol. 124.— 2016.— [P. 11-17] |
---|---|
Autres auteurs: | Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Sadykova I. |
Résumé: | Title screen The regularities of energy and matter transfer in the magnetron sputtering systems (MSS) with liquid-phase targets were analyzed. For this purpose a mathematical model of heat and erosion processes in a thermally insulated target of MSS has been developed and the problem of energy balance in a substrate and its heating during coating deposition was solved. The model is based on the fact that the flow of atoms from the surface of the liquid-phase target under the action of plasma consists of two independent components: sputtered and vaporized particles. The reliability of this model is confirmed by a good agreement between the calculated and experimental data. Using the model developed the regularities of the rate of the target surface erosion and metal coatings deposition were revealed. We investigated the effect of the ion current power density and material properties of the cathode. The calculations according to this model and experiments show the growth rate of metal coatings reaches from 100 to 1000 nm/s when intense evaporation occurs. It is one or two orders of magnitude higher than the rate of coating deposition when using solid target. The results can be useful for the development of technologies of high-rate coating deposition. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
Langue: | anglais |
Publié: |
2016
|
Sujets: | |
Accès en ligne: | http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.009 |
Format: | Électronique Chapitre de livre |
KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=645928 |
Documents similaires
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
Publié: (2019)
Publié: (2019)
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
Publié: (2016)
Publié: (2016)
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
Publié: (2017)
Publié: (2017)
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
par: Shevchenko I. M.
Publié: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
par: Shevchenko I. M.
Publié: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
High-rate magnetron sputtering with hot target
Publié: (2016)
Publié: (2016)
Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью
par: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
Publié: (2015)
par: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
Publié: (2015)
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
Publié: (2017)
Publié: (2017)
Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets
Publié: (2019)
Publié: (2019)
Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition
Publié: (2018)
Publié: (2018)
The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target
Publié: (2019)
Publié: (2019)
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering
Publié: (2018)
Publié: (2018)
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target
Publié: (2016)
Publié: (2016)
Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering
Publié: (2019)
Publié: (2019)
Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий
par: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publié: (2021)
par: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publié: (2021)
Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
par: Рогожников Д. С.
Publié: (2016)
par: Рогожников Д. С.
Publié: (2016)
Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
Publié: (2016)
Publié: (2016)
Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering
par: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publié: (2018)
par: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publié: (2018)
Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий
par: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publié: (2020)
par: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publié: (2020)
Deposition of calcium phosphate coatings using radio frequency magnetron sputtering of substituted β-tricalcium phosphate targets
Publié: (2018)
Publié: (2018)
Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью
Publié: (2018)
Publié: (2018)
Сравнительный анализ производительности и энергоэффективности получения металлических покрытий с использованием мощных импульсных ионных пучков и плазмы магнетронного разряда
par: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publié: (2012)
par: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publié: (2012)
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit
Publié: (2016)
Publié: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source: Microstructure and functional properties of CrNx coatings
Publié: (2022)
Publié: (2022)
High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering
Publié: (2019)
Publié: (2019)
Magnetron sputtering system
par: Lazarev A. V.
Publié: (2015)
par: Lazarev A. V.
Publié: (2015)
Magnetron Discharge in the Diode with a Liquid-Metal Target
Publié: (2004)
Publié: (2004)
PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties
Publié: (2017)
Publié: (2017)
Оптические характеристики плазмы магнетронного разряда в условиях осаждения оксидов и оксинитридов титана
par: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Publié: (2010)
par: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Publié: (2010)
Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition
par: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Publié: (2016)
par: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Publié: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition
Publié: (2021)
Publié: (2021)
Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук спец. 01.04.07
par: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Publié: (Томск, 2018)
par: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Publié: (Томск, 2018)
Т. 1
Publié: (1977)
Publié: (1977)
Formation of Ti-Al-Cr-B-N Coatings by Ion-Magnetron Sputtering of Composite Targets
Publié: (2017)
Publié: (2017)
Antibacterial PLGA and PCL membranes, modified by magnetron sputtering method of copper target
par: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Publié: (2021)
par: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Publié: (2021)
Исследование адгезионных свойств кремнийсодержащего кальций-фосфатного покрытия, осажденного методом ВЧ-магнетронного распыления на нагретую подложку
Publié: (2013)
Publié: (2013)
Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge
Publié: (2004)
Publié: (2004)
Calcium Phosphate Targets for RF Magnetron Sputtering of Biocoatings
Publié: (2019)
Publié: (2019)
Synthesis of hafnium-based max phases by magnetron sputtering
par: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
Publié: (2018)
par: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
Publié: (2018)
Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС
par: Киселева Д. В.
Publié: (2015)
par: Киселева Д. В.
Publié: (2015)
Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets
Publié: (2018)
Publié: (2018)
Documents similaires
-
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
Publié: (2019) -
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
Publié: (2016) -
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
Publié: (2017) -
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
par: Shevchenko I. M.
Publié: (Ставрополь, СКФУ, 2022) -
High-rate magnetron sputtering with hot target
Publié: (2016)