Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target
| Parent link: | Vacuum Vol. 124.— 2016.— [P. 11-17] |
|---|---|
| مؤلف مشترك: | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) |
| مؤلفون آخرون: | Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Sadykova I. |
| الملخص: | Title screen The regularities of energy and matter transfer in the magnetron sputtering systems (MSS) with liquid-phase targets were analyzed. For this purpose a mathematical model of heat and erosion processes in a thermally insulated target of MSS has been developed and the problem of energy balance in a substrate and its heating during coating deposition was solved. The model is based on the fact that the flow of atoms from the surface of the liquid-phase target under the action of plasma consists of two independent components: sputtered and vaporized particles. The reliability of this model is confirmed by a good agreement between the calculated and experimental data. Using the model developed the regularities of the rate of the target surface erosion and metal coatings deposition were revealed. We investigated the effect of the ion current power density and material properties of the cathode. The calculations according to this model and experiments show the growth rate of metal coatings reaches from 100 to 1000 nm/s when intense evaporation occurs. It is one or two orders of magnitude higher than the rate of coating deposition when using solid target. The results can be useful for the development of technologies of high-rate coating deposition. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| منشور في: |
2016
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.009 |
| التنسيق: | الكتروني فصل الكتاب |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=645928 |
مواد مشابهة
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
منشور في: (2016)
منشور في: (2016)
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
منشور في: (2017)
منشور في: (2017)
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
حسب: Shevchenko I. M.
منشور في: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
حسب: Shevchenko I. M.
منشور في: (Ставрополь, СКФУ, 2022)
High-rate magnetron sputtering with hot target
منشور في: (2016)
منشور في: (2016)
Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью
حسب: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
منشور في: (2015)
حسب: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
منشور في: (2015)
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
منشور في: (2017)
منشور في: (2017)
Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition
منشور في: (2018)
منشور في: (2018)
The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering
منشور في: (2018)
منشور في: (2018)
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target
منشور في: (2016)
منشور في: (2016)
Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий
حسب: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
منشور في: (2021)
حسب: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
منشور في: (2021)
Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
حسب: Рогожников Д. С.
منشور في: (2016)
حسب: Рогожников Д. С.
منشور في: (2016)
Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
منشور في: (2016)
منشور في: (2016)
Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering
حسب: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
منشور في: (2018)
حسب: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
منشور في: (2018)
Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий
حسب: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
منشور في: (2020)
حسب: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
منشور في: (2020)
Deposition of calcium phosphate coatings using radio frequency magnetron sputtering of substituted β-tricalcium phosphate targets
منشور في: (2018)
منشور في: (2018)
Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью
منشور في: (2018)
منشور في: (2018)
Сравнительный анализ производительности и энергоэффективности получения металлических покрытий с использованием мощных импульсных ионных пучков и плазмы магнетронного разряда
حسب: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
منشور في: (2012)
حسب: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
منشور في: (2012)
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit
منشور في: (2016)
منشور في: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source: Microstructure and functional properties of CrNx coatings
منشور في: (2022)
منشور في: (2022)
High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
Magnetron sputtering system
حسب: Lazarev A. V.
منشور في: (2015)
حسب: Lazarev A. V.
منشور في: (2015)
PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties
منشور في: (2017)
منشور في: (2017)
Magnetron Discharge in the Diode with a Liquid-Metal Target
منشور في: (2004)
منشور في: (2004)
Оптические характеристики плазмы магнетронного разряда в условиях осаждения оксидов и оксинитридов титана
حسب: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
منشور في: (2010)
حسب: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
منشور في: (2010)
Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition
حسب: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
منشور في: (2016)
حسب: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
منشور في: (2016)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition
منشور في: (2021)
منشور في: (2021)
Т. 1
منشور في: (1977)
منشور في: (1977)
Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук спец. 01.04.07
حسب: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
منشور في: (Томск, 2018)
حسب: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
منشور في: (Томск, 2018)
Исследование адгезионных свойств кремнийсодержащего кальций-фосфатного покрытия, осажденного методом ВЧ-магнетронного распыления на нагретую подложку
منشور في: (2013)
منشور في: (2013)
Antibacterial PLGA and PCL membranes, modified by magnetron sputtering method of copper target
حسب: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
منشور في: (2021)
حسب: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
منشور في: (2021)
Formation of Ti-Al-Cr-B-N Coatings by Ion-Magnetron Sputtering of Composite Targets
منشور في: (2017)
منشور في: (2017)
Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge
منشور في: (2004)
منشور في: (2004)
Calcium Phosphate Targets for RF Magnetron Sputtering of Biocoatings
منشور في: (2019)
منشور في: (2019)
Synthesis of hafnium-based max phases by magnetron sputtering
حسب: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
منشور في: (2018)
حسب: Zelentsov D. Yu. Denis Yurjevich
منشور في: (2018)
Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС
حسب: Киселева Д. В.
منشور في: (2015)
حسب: Киселева Д. В.
منشور في: (2015)
Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets
منشور في: (2018)
منشور في: (2018)
مواد مشابهة
-
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
منشور في: (2019) -
Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion
منشور في: (2016) -
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target
منشور في: (2017) -
Materials science and technologies of modern advanced materials : practical course
حسب: Shevchenko I. M.
منشور في: (Ставрополь, СКФУ, 2022) -
High-rate magnetron sputtering with hot target
منشور في: (2016)