Электроперенос пленок арсенида галлия, синтезированных ионной абляцией; Известия вузов. Физика; Т. 57, № 9/3

Détails bibliographiques
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957-
Т. 57, № 9/3.— 2014.— [С. 61-65]
Collectivité auteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Autres auteurs: Кабышев А. В. Александр Васильевич, Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Remnev G. E. Gennady Efimovich, Павлов С. К. Сергей Константинович
Résumé:Заглавие с экрана
Исследованы электрофизические и фотоэлектрические свойства тонких пленок GaAs, осажденных на поликристаллический кремний импульсной ионной абляцией с использованием мощных ионных пучков. Установлен преобладающий механизм переноса носителей заряда в пленках и тип темновой и фотопроводимости. Определено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1000 К) на энергетические и кинетические характеристики темновой и фотопроводимости, механизм переноса и тип носителей заряда. Рассмотрены наиболее вероятные причины изменений электрических и фотоэлектрических характеристик пленок.
The electrical and photoelectric properties of thin films of GaAs, deposited on polycrystalline silicon pulsed ion ablation using high-power ion beams were investigated. The dominant mechanism of charge transport in films and type of dark and photoconductivity was established. The effect of annealing in vacuum (10 -2 Pa, 300-1000 K) on the energetic and kinetic characteristics of dark and photoconductivity and transport mechanism and the type of charge carriers were determined. The most probable reasons of changes in the electrical and photoelectric characteristics of the films were considered.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Langue:russe
Publié: 2014
Sujets:
Accès en ligne:http://elibrary.ru/item.asp?id=23274334
Format: Électronique Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=645026

MARC

LEADER 00000nla0a2200000 4500
001 645026
005 20250319115210.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\10110 
035 |a RU\TPU\network\10100 
090 |a 645026 
100 |a 20151208d2014 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Электроперенос пленок арсенида галлия, синтезированных ионной абляцией  |d Transport charge of gallium arsenide films, synthesized by ionic ablation  |f А. В. Кабышев [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 64-65 (22 назв.)] 
330 |a Исследованы электрофизические и фотоэлектрические свойства тонких пленок GaAs, осажденных на поликристаллический кремний импульсной ионной абляцией с использованием мощных ионных пучков. Установлен преобладающий механизм переноса носителей заряда в пленках и тип темновой и фотопроводимости. Определено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1000 К) на энергетические и кинетические характеристики темновой и фотопроводимости, механизм переноса и тип носителей заряда. Рассмотрены наиболее вероятные причины изменений электрических и фотоэлектрических характеристик пленок. 
330 |a The electrical and photoelectric properties of thin films of GaAs, deposited on polycrystalline silicon pulsed ion ablation using high-power ion beams were investigated. The dominant mechanism of charge transport in films and type of dark and photoconductivity was established. The effect of annealing in vacuum (10 -2 Pa, 300-1000 K) on the energetic and kinetic characteristics of dark and photoconductivity and transport mechanism and the type of charge carriers were determined. The most probable reasons of changes in the electrical and photoelectric characteristics of the films were considered. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |o научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)  |d 1957- 
463 |t Т. 57, № 9/3  |v [С. 61-65]  |d 2014 
510 1 |a Transport charge of gallium arsenide films, synthesized by ionic ablation  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a арсенид галлия 
610 1 |a энергия активации 
610 1 |a плотность состояний 
610 1 |a прыжковая проводимость 
610 1 |a фотопроводимость 
610 1 |a вакуумный отжиг 
610 1 |a gallium arsenide 
610 1 |a activation energy 
610 1 |a density of states 
610 1 |a hopping conductivity 
610 1 |a photo-conductivity 
610 1 |a vacuum annealing 
701 1 |a Кабышев  |b А. В.  |c специалист в области электроэнергетики  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1958-  |g Александр Васильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27068 
701 1 |a Конусов  |b Ф. В.  |c физик  |c ведущий инженер Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1958-  |g Федор Валерьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30120  |9 14526 
701 1 |a Remnev  |b G. E.  |c physicist  |c Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences  |f 1948-  |g Gennady Efimovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31500 
701 1 |a Павлов  |b С. К.  |c физик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1990-  |g Сергей Константинович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32608 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Лаборатория № 1  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19035 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20151208  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=23274334 
942 |c CF