Способ синтеза наноалмазов и наноразмерных частиц карбида кремния в поверхностном слое кремния

Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter: Ремнев Г. Е. Геннадий Ефимович
Institution som forfatter: Томский политехнический университет (ТПУ)
Andre forfattere: Степанов А. В. Андрей Владимирович, Салтымаков М. С. Максим Сергеевич
Summary:опубл. 10.07.10
В патентуемом способе синтез SiC проводят путем имплантации ускоренных ионов углерода в подложку из Si. В отличие от прототипа имплантацию проводят в импульсном режиме с длительностью импульса ионного пучка в диапазоне 10{-8}-10{-6} с, плотностью тока в импульсе 10-10{2} А/см{2}, при энергии ионов 10{4}-10{6} эВ и при числе импульсов воздействия пучка на мишень 10{2}-10{4}. Числом импульсов контролируется число внедренных в поверхностный слой атомов углерода, которое определяет объемную долю синтезированных частиц. А параметрами пучка (плотностью тока, энергией ионов, длительностью импульса) задаются требуемые для синтеза наноалмазов и наночастиц SiC температура и давление. Предложенный способ позволяет методом импульсной ионной имплантации с определенными режимами формировать в поверхностном слое монокристаллич. кремниевой мишени поликристаллы SiC и наноалмазов. Способ м. б. достаточно просто реализован в технол. линиях, так как требует для своего осуществления всего одну вакуумную установку, которая в настоящее время достаточно технически проработана. Способ м. б. использован при получении новых материалов.
Sprog:russisk
Udgivet:
Fag:
Online adgang:http://www1.fips.ru/Archive/PAT/2010FULL/2010.07.10/DOC/RUNWC1/000/000/002/393/989/document.pdf
Format: Electronisk Bog
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=643687

MARC

LEADER 00000nlm0a2200000 4500
001 643687
005 20240209110352.0
029 1 0 |a RU  |b 2393989  |c Пат.  |d МПК C 01 B 31/06  |d МПК B 82 B 3/00 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\8684 
035 |a RU\TPU\network\8683 
039 0 |a RU  |b 2009107400/15  |c 20090302 
090 |a 643687 
100 |a 20150922j20100710k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a k 000zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Способ синтеза наноалмазов и наноразмерных частиц карбида кремния в поверхностном слое кремния  |f Г. Е. Ремнев, А. В. Степанов, М. С. Салтымаков  |g Томский политехнический университет (ТПУ) 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a опубл. 10.07.10 
330 |a В патентуемом способе синтез SiC проводят путем имплантации ускоренных ионов углерода в подложку из Si. В отличие от прототипа имплантацию проводят в импульсном режиме с длительностью импульса ионного пучка в диапазоне 10{-8}-10{-6} с, плотностью тока в импульсе 10-10{2} А/см{2}, при энергии ионов 10{4}-10{6} эВ и при числе импульсов воздействия пучка на мишень 10{2}-10{4}. Числом импульсов контролируется число внедренных в поверхностный слой атомов углерода, которое определяет объемную долю синтезированных частиц. А параметрами пучка (плотностью тока, энергией ионов, длительностью импульса) задаются требуемые для синтеза наноалмазов и наночастиц SiC температура и давление. Предложенный способ позволяет методом импульсной ионной имплантации с определенными режимами формировать в поверхностном слое монокристаллич. кремниевой мишени поликристаллы SiC и наноалмазов. Способ м. б. достаточно просто реализован в технол. линиях, так как требует для своего осуществления всего одну вакуумную установку, которая в настоящее время достаточно технически проработана. Способ м. б. использован при получении новых материалов. 
610 1 |a патенты 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a изобретения 
610 1 |a кремний 
610 1 |a поверхностные слои 
610 1 |a наночастицы 
610 1 |a алмазы 
700 1 |a Ремнев  |b Г. Е.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1948-  |g Геннадий Ефимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22004 
701 1 |a Степанов  |b А. В.  |c физик  |c научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1981-  |g Андрей Владимирович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28104  |9 13062 
701 1 |a Салтымаков  |b М. С.  |c физик  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1982-  |g Максим Сергеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30452 
712 0 2 |a Томский политехнический университет (ТПУ)  |c (1991-2009)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\376 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20120201 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160606  |g RCR 
856 4 |u http://www1.fips.ru/Archive/PAT/2010FULL/2010.07.10/DOC/RUNWC1/000/000/002/393/989/document.pdf 
942 |c CF