APA (7th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра электроники и автоматики физических установок (№ 24) (ЭАФУ), Kozin K. A. Kirill Andreevich, Goryunov A. G. Aleksey Germanovich, Manenti F. Flavio, Rossi F. Francesco, & Stolpovsky A. E. Aleksey Evgenjevich. (2015). Development of an Advanced Control System for a ChemicalVapor Deposition (CVD) Reactor for Polysilicon Production. 2015. https://doi.org/10.3303/CET1543256

Chicago Style (17th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра электроники и автоматики физических установок (№ 24) (ЭАФУ), Kozin K. A. Kirill Andreevich, Goryunov A. G. Aleksey Germanovich, Manenti F. Flavio, Rossi F. Francesco, and Stolpovsky A. E. Aleksey Evgenjevich. Development of an Advanced Control System for a ChemicalVapor Deposition (CVD) Reactor for Polysilicon Production. 2015, 2015. https://doi.org/10.3303/CET1543256.

MLA (9th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра электроники и автоматики физических установок (№ 24) (ЭАФУ), et al. Development of an Advanced Control System for a ChemicalVapor Deposition (CVD) Reactor for Polysilicon Production. 2015, 2015. https://doi.org/10.3303/CET1543256.