Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью; Современные научные исследования и инновации; № 4
| Parent link: | Современные научные исследования и инновации: научно-практический журнал.— , 2011- № 4.— 2015 |
|---|---|
| Հիմնական հեղինակ: | |
| Համատեղ հեղինակ: | |
| Ամփոփում: | Заглавие с экрана В работе рассмотрена магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью, предназначенная для получения толстых (десятки…сотни микрометров) металлических покрытий с высокими скоростями осаждения (десятки нанометров в секунду). В случае распыления из жидкой фазы, возможен переход к режиму работы магнетрона на собственных парах мишени. Это позволяет получать более чистые покрытия и способствует повышению рабочих характеристик. The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquid phase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It provides to form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid target is used to deposition of thick metal films (10…100 µm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. |
| Լեզու: | ռուսերեն |
| Հրապարակվել է: |
2015
|
| Շարք: | Технические науки |
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | http://web.snauka.ru/issues/2015/04/51541 |
| Ձևաչափ: | MixedMaterials Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=643155 |