Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью
| Parent link: | Современные научные исследования и инновации: научно-практический журнал.— , 2011- № 4.— 2015 |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Autor Corporativo: | |
| Resumo: | Заглавие с экрана В работе рассмотрена магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью, предназначенная для получения толстых (десятки…сотни микрометров) металлических покрытий с высокими скоростями осаждения (десятки нанометров в секунду). В случае распыления из жидкой фазы, возможен переход к режиму работы магнетрона на собственных парах мишени. Это позволяет получать более чистые покрытия и способствует повышению рабочих характеристик. The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquid phase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It provides to form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid target is used to deposition of thick metal films (10…100 µm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. |
| Publicado em: |
2015
|
| coleção: | Технические науки |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://web.snauka.ru/issues/2015/04/51541 |
| Formato: | Recurso Eletrônico Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=643155 |
MARC
| LEADER | 00000nla0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 643155 | ||
| 005 | 20250213143908.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\8143 | ||
| 090 | |a 643155 | ||
| 100 | |a 20150831d2015 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью |d Magnetron sputtering system with a liquid phase target |f А. В. Юрьева | |
| 203 | |a Text |c electronic | ||
| 225 | 1 | |a Технические науки | |
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: 5 назв.] | ||
| 330 | |a В работе рассмотрена магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью, предназначенная для получения толстых (десятки…сотни микрометров) металлических покрытий с высокими скоростями осаждения (десятки нанометров в секунду). В случае распыления из жидкой фазы, возможен переход к режиму работы магнетрона на собственных парах мишени. Это позволяет получать более чистые покрытия и способствует повышению рабочих характеристик. | ||
| 330 | |a The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquid phase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It provides to form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid target is used to deposition of thick metal films (10…100 µm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. | ||
| 461 | |t Современные научные исследования и инновации |o научно-практический журнал |d 2011- | ||
| 463 | |t № 4 |d 2015 | ||
| 510 | 1 | |a Magnetron sputtering system with a liquid phase target |z ger | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a испарение | |
| 610 | 1 | |a магнетронные системы | |
| 610 | 1 | |a распыление | |
| 700 | 1 | |a Юрьева |b А. В. |c специалист в области водородной энергетики и плазменных технологий |c доцент Томского политехнического университета, кандидат технических наук |f 1983- |g Алёна Викторовна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30232 |9 14612 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18735 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20150831 |g RCR | |
| 856 | 4 | 0 | |u http://web.snauka.ru/issues/2015/04/51541 |
| 942 | |c CF | ||