Влияние кинетики усадки порошкового слоя на режимы формирования покрытия в процессе электронно-лучевой наплавки; Физическая мезомеханика; Т. 7, № S2

Влияние кинетики усадки порошкового слоя на режимы формирования покрытия в процессе электронно-лучевой наплавки; Физическая мезомеханика; Т. 7, № S2

Detalles Bibliográficos
Parent link:Физическая мезомеханика/ Российская академия наук (РАН), Сибирское отделение (СО), Институт физики прочности и материаловедения (ИФПМ).— , 1998-
Т. 7, № S2.— 2004.— [С. 193-196]
Autor Principal: Букрина Н. В.
Outros autores: Князева А. Г. Анна Георгиевна, Поболь И. Л.
Summary:Заглавие с экрана
Предложена трехмерная модель электронно-лучевой обработки материала с предварительно нанесенным порошковым слоем, который может претерпевать усадку в процессе обработки. Кинетика процесса усадки описана с помощью известных моделей диффузионного спекания. Задача решается численно. Определяются характеристики квазистационарной стадии процесса, размер и форма зоны термического влияния и ванны расплава и рельеф поверхности в зависимости от параметров источника нагрева и кинетики процесса усадки.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:ruso
Publicado: 2004
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
Acceso en liña:http://elibrary.ru/item.asp?id=10332412
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=638110

Títulos similares

Títulos similares