Осаждение пленок арсенида галлия на кремнии импульсной ионной абляцией и их свойства; Взаимодействие излучений с твердым телом

Podrobná bibliografie
Parent link:Взаимодействие излучений с твердым телом.— 2011.— [С. 306-308]
Další autoři: Кабышев А. В. Александр Васильевич, Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Ложников С. Н., Ремнев Г. Е. Геннадий Ефимович
Shrnutí:Заглавие с титульного листа
Перспективным направлением электроники является объединение соединений AIIIBV, обладающих уникальными оптическими и электрическими свойствами, с кремнием, как эффективной и экономичной подложкой. Проблемы роста полярного полупроводника на неполярной подложке решены частично и стимулируют поиск новых методов получения структур GaAs на Si. Импульсные методы осаждения пленок обладают преимуществами по сравнению с традиционными. Осаждение GaAs из плазмы, создаваемой мощным ионным пучком, не уступает по скорости роста и качеству пленкам, синтезированным импульсными методами. Свойства пленок, осажденных импульсной ионной абляцией изучены недостаточно. В работе исследованы оптические, электрические и фотоэлектрические свойства пленок GaAs, осажденных на поликристаллический кремний из плазмы, сформированной ионным пучком. Установлено влияние на характеристики пленок термического отжига при Р≤10-2 Па, Тотж=300-900 К. Характеристики пленок GaAs/Si в зависимости от условий их осаждения меняются в широких пределах. Влияние Si отражается на полевых, температурных, энергетических, барьерных и спектральных характеристиках структуры Ag/GaAs/Si. Отжиг меняет свойства пленок вследствие изменения их стехиометрического состава, аннигиляции дефектов, преобразования их в комплексы и изменений морфологии. Оптимальные свойства получены после отжиге при 300-600 К.
Jazyk:ruština
Vydáno: 2011
Edice:Пучковые методы формирования наноматериалов и наноструктур
Témata:
On-line přístup:http://www.elib.bsu.by/handle/123456789/28063
Médium: MixedMaterials Elektronický zdroj Kapitola
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637382

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 637382
005 20250528094426.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1499 
035 |a RU\TPU\network\1493 
090 |a 637382 
100 |a 20140904d2011 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Осаждение пленок арсенида галлия на кремнии импульсной ионной абляцией и их свойства  |f А. В. Кабышев [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
225 1 |a Пучковые методы формирования наноматериалов и наноструктур 
300 |a Заглавие с титульного листа 
320 |a [Библиогр.: с. 308 (22 назв.)] 
330 |a Перспективным направлением электроники является объединение соединений AIIIBV, обладающих уникальными оптическими и электрическими свойствами, с кремнием, как эффективной и экономичной подложкой. Проблемы роста полярного полупроводника на неполярной подложке решены частично и стимулируют поиск новых методов получения структур GaAs на Si. Импульсные методы осаждения пленок обладают преимуществами по сравнению с традиционными. Осаждение GaAs из плазмы, создаваемой мощным ионным пучком, не уступает по скорости роста и качеству пленкам, синтезированным импульсными методами. Свойства пленок, осажденных импульсной ионной абляцией изучены недостаточно. В работе исследованы оптические, электрические и фотоэлектрические свойства пленок GaAs, осажденных на поликристаллический кремний из плазмы, сформированной ионным пучком. Установлено влияние на характеристики пленок термического отжига при Р≤10-2 Па, Тотж=300-900 К. Характеристики пленок GaAs/Si в зависимости от условий их осаждения меняются в широких пределах. Влияние Si отражается на полевых, температурных, энергетических, барьерных и спектральных характеристиках структуры Ag/GaAs/Si. Отжиг меняет свойства пленок вследствие изменения их стехиометрического состава, аннигиляции дефектов, преобразования их в комплексы и изменений морфологии. Оптимальные свойства получены после отжиге при 300-600 К. 
337 |a Adobe Reader 
463 |t Взаимодействие излучений с твердым телом  |o материалы 9-й Международной конференции, 20-22 сентября 2011 г., г. Минск  |f Белорусский государственный университет (БГУ)  |v [С. 306-308]  |d 2011 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электроперенос 
610 1 |a пленки 
610 1 |a арсенид галлия 
610 1 |a абляция 
610 1 |a кремний 
701 1 |a Кабышев  |b А. В.  |c специалист в области электроэнергетики  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1958-  |g Александр Васильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27068 
701 1 |a Конусов  |b Ф. В.  |c физик  |c ведущий инженер Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1958-  |g Федор Валерьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30120  |9 14526 
701 1 |a Ложников  |b С. Н. 
701 1 |a Ремнев  |b Г. Е.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1948-  |g Геннадий Ефимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22004 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20151026  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://www.elib.bsu.by/handle/123456789/28063 
942 |c CF