Электроперенос пленок арсенида галлия, синтезированных на поликоре ионной абляцией

Bibliographic Details
Parent link:Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы 10-й Международной конференции, 24-27 сентября 2013 г., г. Минск/ Белорусский государственный университет (БГУ). [С. 193-195].— , 2013
Main Author: Кабышев А. В. Александр Васильевич
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Other Authors: Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Павлов С. К. Сергей Константинович
Summary:Заглавие с титульного листа
Исследованы энергетические характеристики и механизмы темновой и фотопроводимости пленок арсенида галлия, полученных осаждением на подложку поликристаллического корунда (поликора) из абляционной плазмы, формируемой мощным ионным пучком. Установлено влияние условий осаждения, типа мишени и отжига в вакууме при остаточном давлении Р=10-2 Па и температуре Тотж=300-1200 К на электрические и фотоэлектрические характеристики пленок. Определены вклады в температурные зависимости темновой и фотопроводимости синтезированных пленок активационной и прыжковой компонент. Тип доминирующих носителей заряда и соотношение между вкладами в проводимость активационной и прыжковой составляющих меняется при вариации условий осаждения и последующей за осаждением термообработки. Выделяется три стадии отжига Тотж=300-600, 600-800 и 800-1200 К с характерными особенностями изменения параметров и механизма электропереноса. При отжиге 300-600 К изменение энергетических характеристик проводимости обусловлено перераспределением заселенности между мелкими и более глубокими локализованными состояниями дефектов, распределенными в запрещенной зоне материала пленок. Аннигиляция нестабильных собственных дефектов и комплексов на их основе влияет на изменение соотношений между параметрами проводимости, фоточувствительности и типа проводимости при отжиге 600-800 К. Повышение устойчивости свойств пленок после термообработки и увеличение плотности состояний для прыжкового переноса при Тотж=800-1200 К обусловлено кластеризацией дефектов.
Language:Russian
Published: 2013
Subjects:
Online Access:http://elib.bsu.by/handle/123456789/49057
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637376

Similar Items