Электроперенос пленок арсенида галлия, синтезированных на поликоре ионной абляцией

Dades bibliogràfiques
Parent link:Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы 10-й Международной конференции, 24-27 сентября 2013 г., г. Минск/ Белорусский государственный университет (БГУ). [С. 193-195].— , 2013
Autor principal: Кабышев А. В. Александр Васильевич
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Altres autors: Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Павлов С. К. Сергей Константинович
Sumari:Заглавие с титульного листа
Исследованы энергетические характеристики и механизмы темновой и фотопроводимости пленок арсенида галлия, полученных осаждением на подложку поликристаллического корунда (поликора) из абляционной плазмы, формируемой мощным ионным пучком. Установлено влияние условий осаждения, типа мишени и отжига в вакууме при остаточном давлении Р=10-2 Па и температуре Тотж=300-1200 К на электрические и фотоэлектрические характеристики пленок. Определены вклады в температурные зависимости темновой и фотопроводимости синтезированных пленок активационной и прыжковой компонент. Тип доминирующих носителей заряда и соотношение между вкладами в проводимость активационной и прыжковой составляющих меняется при вариации условий осаждения и последующей за осаждением термообработки. Выделяется три стадии отжига Тотж=300-600, 600-800 и 800-1200 К с характерными особенностями изменения параметров и механизма электропереноса. При отжиге 300-600 К изменение энергетических характеристик проводимости обусловлено перераспределением заселенности между мелкими и более глубокими локализованными состояниями дефектов, распределенными в запрещенной зоне материала пленок. Аннигиляция нестабильных собственных дефектов и комплексов на их основе влияет на изменение соотношений между параметрами проводимости, фоточувствительности и типа проводимости при отжиге 600-800 К. Повышение устойчивости свойств пленок после термообработки и увеличение плотности состояний для прыжкового переноса при Тотж=800-1200 К обусловлено кластеризацией дефектов.
Idioma:rus
Publicat: 2013
Matèries:
Accés en línia:http://elib.bsu.by/handle/123456789/49057
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637376

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 637376
005 20250528093857.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1493 
035 |a RU\TPU\network\1492 
090 |a 637376 
100 |a 20140904d2013 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Электроперенос пленок арсенида галлия, синтезированных на поликоре ионной абляцией  |f А. В. Кабышев, Ф. В. Конусов, С. К. Павлов 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с титульного листа 
320 |a [Библиогр.: с. 195 (15 назв.)] 
330 |a Исследованы энергетические характеристики и механизмы темновой и фотопроводимости пленок арсенида галлия, полученных осаждением на подложку поликристаллического корунда (поликора) из абляционной плазмы, формируемой мощным ионным пучком. Установлено влияние условий осаждения, типа мишени и отжига в вакууме при остаточном давлении Р=10-2 Па и температуре Тотж=300-1200 К на электрические и фотоэлектрические характеристики пленок. Определены вклады в температурные зависимости темновой и фотопроводимости синтезированных пленок активационной и прыжковой компонент. Тип доминирующих носителей заряда и соотношение между вкладами в проводимость активационной и прыжковой составляющих меняется при вариации условий осаждения и последующей за осаждением термообработки. Выделяется три стадии отжига Тотж=300-600, 600-800 и 800-1200 К с характерными особенностями изменения параметров и механизма электропереноса. При отжиге 300-600 К изменение энергетических характеристик проводимости обусловлено перераспределением заселенности между мелкими и более глубокими локализованными состояниями дефектов, распределенными в запрещенной зоне материала пленок. Аннигиляция нестабильных собственных дефектов и комплексов на их основе влияет на изменение соотношений между параметрами проводимости, фоточувствительности и типа проводимости при отжиге 600-800 К. Повышение устойчивости свойств пленок после термообработки и увеличение плотности состояний для прыжкового переноса при Тотж=800-1200 К обусловлено кластеризацией дефектов. 
337 |a Adobe Reader 
463 |t Взаимодействие излучений с твердым телом  |o материалы 10-й Международной конференции, 24-27 сентября 2013 г., г. Минск  |f Белорусский государственный университет (БГУ)  |v [С. 193-195]  |d 2013 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электроперенос 
610 1 |a пленки 
610 1 |a арсенид галлия 
610 1 |a поликоры 
610 1 |a абляция 
610 1 |a фотопроводимость 
610 1 |a поликристаллический корунд 
700 1 |a Кабышев  |b А. В.  |c специалист в области электроэнергетики  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1958-  |g Александр Васильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27068 
701 1 |a Конусов  |b Ф. В.  |c физик  |c ведущий инженер Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1958-  |g Федор Валерьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30120  |9 14526 
701 1 |a Павлов  |b С. К.  |c физик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1990-  |g Сергей Константинович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32608 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Энергетический институт (ЭНИН)  |b Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18676 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Лаборатория № 1  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19035 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20151026  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://elib.bsu.by/handle/123456789/49057 
942 |c CF