Термическая и химическая пассивация пленок арсенида галлия, осажденных из абляционной плазмы; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 2

التفاصيل البيبلوغرافية
Parent link:Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования.— , 1995-
№ 2.— 2014.— [С. 65-68]
المؤلف الرئيسي: Кабышев А. В. Александр Васильевич
مؤلفون مشاركون: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)
مؤلفون آخرون: Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Ремнев Г. Е. Геннадий Ефимович
الملخص:Заглавие с экрана
Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства пленок арсенида галлия, полученных осаждением на подложку поликристаллического корунда из абляционной плазмы, формируемой мощным ионным пучком. Установлено влияние отжига в вакууме (P = 10-2 Па, T = 300-1200 К), на воздухе и химической сульфидной пассивации из спиртового раствора на характеристики поверхностной темновой проводимости и фотопроводимости пленок. Определены оптимальные условия термической и химической обработок, при которых достигаются наиболее устойчивые изменения свойств пленок. Повышение стабильности электрических и фотоэлектрических характеристик пленок в результате термообработки обусловлено отжигом дефектов и их кластеризацией. Сульфидная пассивация меняет характеристики и повышает стабильность свойств к окислению на воздухе.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
اللغة:الروسية
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://elibrary.ru/item.asp?id=21124954
التنسيق: MixedMaterials الكتروني فصل الكتاب
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637373

MARC

LEADER 00000nla0a2200000 4500
001 637373
005 20250418112437.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1490 
035 |a RU\TPU\network\1477 
090 |a 637373 
100 |a 20140903d2014 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Термическая и химическая пассивация пленок арсенида галлия, осажденных из абляционной плазмы   |f А. В. Кабышев, Ф. В. Конусов, Г. Е. Ремнев 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 68 (30 назв.)] 
330 |a Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства пленок арсенида галлия, полученных осаждением на подложку поликристаллического корунда из абляционной плазмы, формируемой мощным ионным пучком. Установлено влияние отжига в вакууме (P = 10-2 Па, T = 300-1200 К), на воздухе и химической сульфидной пассивации из спиртового раствора на характеристики поверхностной темновой проводимости и фотопроводимости пленок. Определены оптимальные условия термической и химической обработок, при которых достигаются наиболее устойчивые изменения свойств пленок. Повышение стабильности электрических и фотоэлектрических характеристик пленок в результате термообработки обусловлено отжигом дефектов и их кластеризацией. Сульфидная пассивация меняет характеристики и повышает стабильность свойств к окислению на воздухе. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования  |d 1995- 
463 |t № 2  |v [С. 65-68]  |d 2014 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a абляция 
610 1 |a арсенид галлия 
610 1 |a плазма 
610 1 |a пассивация 
610 1 |a пленки 
700 1 |a Кабышев  |b А. В.  |c специалист в области электроэнергетики  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1958-  |g Александр Васильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27068 
701 1 |a Конусов  |b Ф. В.  |c физик  |c ведущий инженер Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1958-  |g Федор Валерьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30120  |9 14526 
701 1 |a Ремнев  |b Г. Е.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1948-  |g Геннадий Ефимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22004 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Энергетический институт (ЭНИН)  |b Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18676 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Лаборатория № 1  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19035 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Физико-технический институт (ФТИ)  |b Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18735 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160420  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=21124954 
942 |c CF