Электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал.— , 1957-
Т. 56, № 6.— 2013.— [С. 3-7]
Հիմնական հեղինակ: Кабышев А. В. Александр Васильевич
Համատեղ հեղինակներ: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)
Այլ հեղինակներ: Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Ремнев Г. Е. Геннадий Ефимович
Ամփոփում:Заглавие с экрана
Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов углерода. Установлено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1200 К) на характеристики поверхностной темновой и фотопроводимости кремния. Определены оптимальные условия термовакуумной обработки, при которой достигаются изменения свойств, наиболее устойчивые к термическому и полевому возбуждению. Установлены вероятные причины изменения электрических и фотоэлектрических характеристик материала.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Լեզու:ռուսերեն
Հրապարակվել է: 2013
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://elibrary.ru/item.asp?id=19431107&
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637366
Նկարագրություն
Ամփոփում:Заглавие с экрана
Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов углерода. Установлено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1200 К) на характеристики поверхностной темновой и фотопроводимости кремния. Определены оптимальные условия термовакуумной обработки, при которой достигаются изменения свойств, наиболее устойчивые к термическому и полевому возбуждению. Установлены вероятные причины изменения электрических и фотоэлектрических характеристик материала.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса