Электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов
| Parent link: | Известия вузов. Физика: научный журнал.— , 1957- Т. 56, № 6.— 2013.— [С. 3-7] |
|---|---|
| Հիմնական հեղինակ: | |
| Համատեղ հեղինակներ: | , , |
| Այլ հեղինակներ: | , |
| Ամփոփում: | Заглавие с экрана Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов углерода. Установлено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1200 К) на характеристики поверхностной темновой и фотопроводимости кремния. Определены оптимальные условия термовакуумной обработки, при которой достигаются изменения свойств, наиболее устойчивые к термическому и полевому возбуждению. Установлены вероятные причины изменения электрических и фотоэлектрических характеристик материала. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Լեզու: | ռուսերեն |
| Հրապարակվել է: |
2013
|
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | http://elibrary.ru/item.asp?id=19431107& |
| Ձևաչափ: | Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637366 |
| Ամփոփում: | Заглавие с экрана Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства поликристаллического кремния после высокоинтенсивной короткоимпульсной имплантации ионов углерода. Установлено влияние отжига в вакууме (10 -2 Па, 300-1200 К) на характеристики поверхностной темновой и фотопроводимости кремния. Определены оптимальные условия термовакуумной обработки, при которой достигаются изменения свойств, наиболее устойчивые к термическому и полевому возбуждению. Установлены вероятные причины изменения электрических и фотоэлектрических характеристик материала. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
|---|