Низкотемпературное фторирование аморфного углерода

Detalhes bibliográficos
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал.— , 1957-
Т. 56, № 4-2.— 2013.— [С. 239-243]
Autor principal: Рыбаков А. В. Андрей Владимирович
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра химической технологии редких, рассеянных и радиоактивных элементов (№ 43) (ХТРЭ)
Outros Autores: Оствальд Р. В. Роман Вячеславович, Дмитриенко В. П. Виктор Петрович
Resumo:Заглавие с экрана
Проведено сравнение различных электрохимических систем, освещены преимущества системы Li/(CF x) n. Предложена методика по определению основных кинетических параметров фторирования углерода. Определено, что аморфный углерод фторируется при значительно низких температурах, чем другие его аллотропные модификации
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Publicado em: 2013
Assuntos:
Acesso em linha:http://elibrary.ru/item.asp?id=20193670
Formato: Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=636285

Registos relacionados