Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2022
Т. 1 : Физика.— 2022.— [С. 50-52]
Autor Principal: Воронина Е. Д. Екатерина Дмитриевна
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Outros autores: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (научный руководитель)
Summary:Заглавие с экрана
This article describes the possibility of film deposition of copper oxide using magnetron sputtering in Ar+O2 operating in a metallic mode. To do this, hysteresis of discharge voltage was obtained at constant (20 sccm) Ar and variable (100 sccm) O2 gas flows, with and without using additional radio-frequency plasma source RPG-128. Then, CuOx films were obtained in metallic modes of magnetron sputtering of copper target at a discharge power of 1000 and 2000 W. These films were investigated by X-ray diffraction to determine its crystal structure.
Idioma:ruso
Publicado: 2022
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
осаждение
пленки
оксид меди
магнетронное распыление
оксиды металлов
металлические режимы
Acceso en liña:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72900
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=634674

Títulos similares

Títulos similares