Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий; Современные технологии, экономика и образование

Библиографические подробности
Источник:Современные технологии, экономика и образование.— 2020.— [С. 51-52]
Главный автор: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Автор-организация: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Другие авторы: Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Юрьева А. В. Алена Викторовна
Примечания:Заглавие с титульного экрана
The mechanisms leading to a noticeable increase in the rate of the surface erosion of liquid metal targets sputtered in the plasma of magnetron sputtering systems are studied. Experimental studies of the growth rate of metal coatings during the operation of magnetrons with liquid-phase targets have been carried out. The calculated results and experimental data are in good agreement, which indicates the correctness of the formulated physical concepts and the obtained regularities.
Язык:русский
Опубликовано: 2020
Предметы:
Online-ссылка:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/64631
Формат: Электронный ресурс Статья
Запись в KOHA:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=632599

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 632599
005 20240212131713.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\34320 
035 |a RU\TPU\conf\34317 
090 |a 632599 
100 |a 20210225d2020 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 101zy 
135 |a drgn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий  |d Analysis of the capabilities of magnetron sputtering systems for high-rate deposition of functional coatings  |f Г. А. Блейхер, В. П. Кривобоков, А. В. Юрьева 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с титульного экрана 
330 |a The mechanisms leading to a noticeable increase in the rate of the surface erosion of liquid metal targets sputtered in the plasma of magnetron sputtering systems are studied. Experimental studies of the growth rate of metal coatings during the operation of magnetrons with liquid-phase targets have been carried out. The calculated results and experimental data are in good agreement, which indicates the correctness of the formulated physical concepts and the obtained regularities. 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\34302  |t Современные технологии, экономика и образование  |o сборник материалов II Всероссийской научно-методической конференции, г. Томск, 2-4 сентября 2020 г.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет ; под ред. А. Г. Фефеловой, Е. А. Покровской, И. О. Болотиной [и др.]  |v [С. 51-52]  |d 2020 
510 1 |a Analysis of the capabilities of magnetron sputtering systems for high-rate deposition of functional coatings  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a магнетронные распылительные системы 
610 1 |a высокоскоростное осаждение 
610 1 |a функциональные покрытия 
610 1 |a эрозия 
610 1 |a жидкометаллические мишени 
610 1 |a плазма 
610 1 |a металлические покрытия 
610 1 |a магнетроны 
700 1 |a Блейхер  |b Г. А.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1961-  |g Галина Алексеевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28948  |9 13681 
701 1 |a Кривобоков  |b В. П.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1948-  |g Валерий Павлович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\21971  |9 9290 
701 1 |a Юрьева  |b А. В.  |c специалист в области водородной энергетики и плазменных технологий  |c ассистент Томского политехнического университета  |f 1983-  |g Алена Викторовна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30232 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23561 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20210305  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/64631 
942 |c BK