Моделирование зависимости профилей распределения интенсивностей элементов с учетом неравномерности распыления оптически-эмиссионного спектрометра тлеющего разряда для анализа многослойных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2020
Т. 1 : Физика.— 2020.— [С. 118-120]
Main Author: Ломыгин А. Д. Антон Дмитриевич
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов
Other Authors: Лаптев Р. С. Роман Сергеевич (научный руководитель), Иванова А. И. Анна Ивановна, Шулепов И. А. Иван Анисимович
Summary:Заглавие с экрана
Modern technologies cannot do without materials with special characteristics; some of these materials are coatings and thin films. Coatings and thin films are used in various fields, from optics to protective films from any influences. In addition to the technological problems associated with the deposition of a large number of layers, methodological problems also arise in profiling due to the physical and instrumental artifacts that accompany ion sputtering of ultrathin and thin multilayer coatings. These factors must be carefully monitored, but spectrometry is one of the methods for controlling the elemental composition glow discharge. The purpose of this study is the ability to adjust the distribution profiles of chemical elements after analysis using a glow discharge spectrometer GD-Profiler 2.
Language:Russian
Published: 2020
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62545
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=631521

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 631521
005 20251028071619.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\33222 
035 |a RU\TPU\conf\33221 
090 |a 631521 
100 |a 20200907d2020 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 100zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Моделирование зависимости профилей распределения интенсивностей элементов с учетом неравномерности распыления оптически-эмиссионного спектрометра тлеющего разряда для анализа многослойных покрытий  |d Modeling of dependence of profiles of distribution of element intensity with taking into account the difference of spraying of the optical emission glow-discharge spectrometer for analysis of multi-layered coatings  |f А. Ломыгин, Р. С. Лаптев, А. И. Иванова  |g науч. рук. И. А. Шулепов 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 120 (4 назв.)] 
330 |a Modern technologies cannot do without materials with special characteristics; some of these materials are coatings and thin films. Coatings and thin films are used in various fields, from optics to protective films from any influences. In addition to the technological problems associated with the deposition of a large number of layers, methodological problems also arise in profiling due to the physical and instrumental artifacts that accompany ion sputtering of ultrathin and thin multilayer coatings. These factors must be carefully monitored, but spectrometry is one of the methods for controlling the elemental composition glow discharge. The purpose of this study is the ability to adjust the distribution profiles of chemical elements after analysis using a glow discharge spectrometer GD-Profiler 2. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\32968  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2020 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\32969  |t Т. 1 : Физика  |v [С. 118-120]  |d 2020 
510 1 |a Modeling of dependence of profiles of distribution of element intensity with taking into account the difference of spraying of the optical emission glow-discharge spectrometer for analysis of multi-layered coatings  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a моделирование 
610 1 |a профили 
610 1 |a распределение 
610 1 |a интенсивность 
610 1 |a элементы 
610 1 |a неравномерность 
610 1 |a спектрометры 
610 1 |a тлеющие разряды 
610 1 |a многослойные покрытия 
610 1 |a химический состав 
610 1 |a свечение 
700 1 |a Ломыгин  |b А. Д.  |c физик  |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета  |f 1997-  |g Антон Дмитриевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\44438  |9 21809 
701 1 |a Лаптев  |b Р. С.  |c физик, специалист в области неразрушающего контроля  |c доцент Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1987-  |g Роман Сергеевич  |y Томск  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\29924  |9 14396 
701 1 |a Иванова  |b А. И.  |c физик  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1987-  |g Анна Ивановна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36985  |9 20001 
702 1 |a Шулепов  |b И. А.  |c физик  |c инженер-проектировщик Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1954-  |g Иван Анисимович  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Отделение экспериментальной физики  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23549 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23698 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20200923  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62545 
942 |c BK