Formation of bulk WC[1-X]-based coatings on metal substrates at highspeed sputtering of electric discharge plasma jet

Podrobná bibliografie
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 225]
Korporace: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Отделение электроэнергетики и электротехники (ОЭЭ)
Další autoři: Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich
Shrnutí:Заглавие с титульного экрана
Jazyk:angličtina
Vydáno: 2019
Témata:
On-line přístup:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57750
Médium: Elektronický zdroj Kapitola
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630882

Podobné jednotky