Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Отделение электроэнергетики и электротехники (ОЭЭ), Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, & Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. (2019). Formation of bulk WC[1-X]-based coatings on metal substrates at highspeed sputtering of electric discharge plasma jet; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019.
Παραπομπή σε μορφή Chicago (17η εκδ.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Отделение электроэнергетики и электротехники (ОЭЭ), Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, και Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. Formation of Bulk WC[1-X]-based Coatings on Metal Substrates at Highspeed Sputtering of Electric Discharge Plasma Jet; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.
Παραπομπή σε μορφή MLA (9th εκδ.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, et al. Formation of Bulk WC[1-X]-based Coatings on Metal Substrates at Highspeed Sputtering of Electric Discharge Plasma Jet; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.