Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Отделение электроэнергетики и электротехники (ОЭЭ), Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, & Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. (2019). Formation of bulk WC[1-X]-based coatings on metal substrates at highspeed sputtering of electric discharge plasma jet. 2019.
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Отделение электроэнергетики и электротехники (ОЭЭ), Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, and Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. Formation of Bulk WC[1-X]-based Coatings on Metal Substrates at Highspeed Sputtering of Electric Discharge Plasma Jet. 2019, 2019.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, et al. Formation of Bulk WC[1-X]-based Coatings on Metal Substrates at Highspeed Sputtering of Electric Discharge Plasma Jet. 2019, 2019.