Оптические свойства пленок азотосодержащего оксида титана, осажденных магнетронным распылением; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Bibliografiska uppgifter
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2019
Т. 1 : Физика.— 2019.— [С. 388-390]
Huvudupphovsman: Сунь Чжилэй
Institutionell upphovsman: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
Övriga upphovsmän: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (научный руководитель), Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Sammanfattning:Заглавие с экрана
In this paper we present the results of investigation of optical properties of nitrogen doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering. The influence of reactive atmosphere and post annealing on refractive index, transmittance and band gap energy has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized by maximum of deposition rate and minimum of refractive index. N-induced band gap narrowing has been observed and the minimum band gap energy was found to be 2.87 eV for annealed TiON 1.5-1 film.
Språk:ryska
Publicerad: 2019
Ämnen:
Länkar:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55873
Materialtyp: Elektronisk Bokavsnitt
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=629726
Beskrivning
Sammanfattning:Заглавие с экрана
In this paper we present the results of investigation of optical properties of nitrogen doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering. The influence of reactive atmosphere and post annealing on refractive index, transmittance and band gap energy has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized by maximum of deposition rate and minimum of refractive index. N-induced band gap narrowing has been observed and the minimum band gap energy was found to be 2.87 eV for annealed TiON 1.5-1 film.