Подбор режимов работы радиочастотного источника оптически-эмиссионного спектрометра тлеющего разряда GD-Profiler 2 для анализа тонких пленок; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

מידע ביבליוגרפי
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2019
Т. 1 : Физика.— 2019.— [С. 208-210]
מחבר ראשי: Ломыгин А. Д. Антон Дмитриевич
מחבר תאגידי: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
מחברים אחרים: Лаптев Р. С. Роман Сергеевич (научный руководитель)
סיכום:Заглавие с экрана
Modern technologies cannot do without materials with special characteristics, some of these materials are coatings and thin films. Coatings and thin films are used in various areas ranging from optics to protective films from any effects. The characteristics of these films mainly depend on two factors of composition and structure. These factors must be carefully controlled, but one method of controlling the elemental composition is glow discharge spectrometry. This study aims to study the sputtering modes for a pulsed radio frequency source of a glow discharge spectrometer DG-Profiler 2.
שפה:רוסית
יצא לאור: 2019
נושאים:
גישה מקוונת:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55833
פורמט: אלקטרוני Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=629686

פריטים דומים