Синтез покрытия на основе бора в пучковой плазме с применением форвакуумного источника электронов; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 7 : IT-технологии и электроника
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017 Т. 7 : IT-технологии и электроника.— 2017.— [С. 15-17] |
|---|---|
| Hovedforfatter: | |
| Andre forfattere: | , |
| Summary: | Заглавие с экрана Article presents the results on deposition of boron-containing coating on Ti substrate. The synthesis of the coating took place in plasma produced by electron beam in fore-vacuum (1-100 Pa) pressure range, during evaporation of boron followed by ionization of boron particles by the same electron beam. We show the results of study of coatings surface. |
| Sprog: | russisk |
| Udgivet: |
2017
|
| Fag: | |
| Online adgang: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/45334 |
| Format: | Electronisk Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=625666 |