Синтез покрытия на основе бора в пучковой плазме с применением форвакуумного источника электронов; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 7 : IT-технологии и электроника

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017
Т. 7 : IT-технологии и электроника.— 2017.— [С. 15-17]
Main Author: Бадмажапов З. А.
Other Authors: Тюньков А. В. (научный руководитель), Юшков Ю. Г.
Summary:Заглавие с экрана
Article presents the results on deposition of boron-containing coating on Ti substrate. The synthesis of the coating took place in plasma produced by electron beam in fore-vacuum (1-100 Pa) pressure range, during evaporation of boron followed by ionization of boron particles by the same electron beam. We show the results of study of coatings surface.
Language:Russian
Published: 2017
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/45334
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=625666

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 625666
005 20231101133356.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\24926 
035 |a RU\TPU\conf\24925 
090 |a 625666 
100 |a 20171216d2017 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus  |d eng 
102 |a RU 
105 |a y z 100zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Синтез покрытия на основе бора в пучковой плазме с применением форвакуумного источника электронов  |d Synthesis of boron coating in beam plasma using fore-vacuum plasmacathode electron source  |f З. А. Бадмажапов, А. В. Тюньков, Ю. Г. Юшков  |g науч. рук. А. В. Тюньков 
203 |a Текст  |c электронный 
230 |a 1 компьютерный файл (pdf; 383 Kb) 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 16 (4 назв.)] 
330 |a Article presents the results on deposition of boron-containing coating on Ti substrate. The synthesis of the coating took place in plasma produced by electron beam in fore-vacuum (1-100 Pa) pressure range, during evaporation of boron followed by ionization of boron particles by the same electron beam. We show the results of study of coatings surface. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21388  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2017 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21398  |t Т. 7 : IT-технологии и электроника  |v [С. 15-17]  |d 2017 
510 1 |a Synthesis of boron coating in beam plasma using fore-vacuum plasmacathode electron source  |z eng 
610 1 |a электронные ресурсы 
610 1 |a материаловедение 
610 1 |a износостойкость 
610 1 |a твердость 
610 1 |a износостойкие покрытия 
610 1 |a электронно-лучевой синтез 
700 1 |a Бадмажапов  |b З. А. 
701 1 |a Тюньков  |b А. В. 
701 1 |a Юшков  |b Ю. Г. 
702 1 |a Тюньков  |b А. В.  |4 727 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20171219  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/45334 
942 |c BK