Пространственное распределение атомов SiO2 до и после плазменного воздействия; Химия и химическая технология в XXI веке

Detalles Bibliográficos
Parent link:	Химия и химическая технология в XXI веке.— 2017.— [С. 71-72]
Autor principal:	Маслов Е. А. Евгений Анатольевич
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Otros Autores:	Волокитин О. Г. (научный руководитель), Шеховцов В. В., Волокитин Г. Г.
Sumario:	Заглавие с экрана
Lenguaje:	ruso
Publicado:	2017
Colección:	Химия и химическая технология неорганических веществ и материалов
Materias:	труды учёных ТПУ электронный ресурс высокотемпературные расплавы золошлаковые отходы базальты горючие сланцы плазменные технологии
Acceso en línea:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41564
Formato:	Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622814

Descripción
Sumario:	Заглавие с экрана

Ejemplares similares