Влияние водорода на электропроводность тонкой плёнки оксида алюминия на титане ВТ1-0; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017
Т. 1 : Физика.— 2017.— [С. 75-77]
Autor Principal: Ван Цайлунь
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Outros autores: Даулетханов Е. Д. (научный руководитель), Инь Шаньшань, Сыпченко В. С. Владимир Сергеевич
Summary:Заглавие с экрана
One of the ways to protect titanium and its alloys from embrittlement is the application of the protection thin films on its surface. Such films (Al2O3) were obtained by magnetron sputtering. The changes in physical and mechanical properties in "Al2O3/Ti" system were studied: the lattice parameters, micro-hardness, electrical conductivity. This paper discussed the dependences of the Al2O3 surface resistivity from hydrogen saturation time. In particular, the increasing of Al2O3 surface conductivity of the film with increasing hydrogen saturation time has been found.
Idioma:ruso
Publicado: 2017
Subjects:
Acceso en liña:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41423
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622652