Структура, формирующаяся при обработке поверхности заэвтектического силумина(AL-(20-22)% SI) высокоинтенсивным электронным пучком

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016
Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 259-261]
Main Author: Рыгина М. Е.
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Other Authors: Петрикова Е. А. (727), Тересов А. Д., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Summary:Заглавие с титульного экрана
This work reflects the study of the composition, the structure and phase composition of thehypereutectic silumin Al-(20-22) wt.% Si, before and after treatment with high-intensity pulsed electron beamsubmillisecond exposure duration (set SOLO, Institute of High Current Electronics, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences). After treatment the microhardness of samples increased more than 2 times.
Language:Russian
Published: 2016
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25827
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618136
Description
Summary:Заглавие с титульного экрана
This work reflects the study of the composition, the structure and phase composition of thehypereutectic silumin Al-(20-22) wt.% Si, before and after treatment with high-intensity pulsed electron beamsubmillisecond exposure duration (set SOLO, Institute of High Current Electronics, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences). After treatment the microhardness of samples increased more than 2 times.