Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью

Sonraí bibleagrafaíochta
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016
Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 253-255]
Príomhchruthaitheoir: Рогожников Д. С.
Údar corparáideach: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Rannpháirtithe: Юрьева А. В. Алена Викторовна (727), Шабунин А. С. Артём Сергеевич
Achoimre:Заглавие с титульного экрана
The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties.
Foilsithe / Cruthaithe: 2016
Ábhair:
Rochtain ar líne:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Formáid: Leictreonach Caibidil leabhair
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618134

Míreanna comhchosúla