Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 253-255] |
|---|---|
| Hlavní autor: | |
| Korporativní autor: | |
| Další autoři: | , |
| Shrnutí: | Заглавие с титульного экрана The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. |
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
2016
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825 |
| Médium: | Elektronický zdroj Kapitola |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618134 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 618134 | ||
| 005 | 20250512142001.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\16515 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\16514 | ||
| 090 | |a 618134 | ||
| 100 | |a 20160524d2016 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 105 | |a y z 101zy | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью |d The metall films deposition by using of the magnetron sputterihg system with the liquid-phase target |f Д. С. Рогожников, А. В. Юрьева, А. С. Шабунин |g науч. рук. А. В. Юрьева | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с титульного экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 255 (5 назв.)] | ||
| 330 | |a The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16353 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2016 | |
| 463 | 0 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16354 |t Т. 1 : Физика |v [С. 253-255] |d 2016 | |
| 510 | 1 | |a The metall films deposition by using of the magnetron sputterihg system with the liquid-phase target |z eng | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a металлические покрытия | |
| 610 | 1 | |a магнетронные распылительные системы | |
| 610 | 1 | |a жидкофазные мишени | |
| 610 | 1 | |a магнетронное распыление | |
| 610 | 1 | |a осаждение | |
| 700 | 1 | |a Рогожников |b Д. С. | |
| 701 | 1 | |a Юрьева |b А. В. |c специалист в области водородной энергетики и плазменных технологий |c ассистент Томского политехнического университета |f 1983- |g Алена Викторовна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30232 | |
| 701 | 1 | |a Шабунин |b А. С. |c физик |c инженер Томского политехнического университета |f 1987- |g Артём Сергеевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36799 | |
| 702 | 1 | |a Юрьева |b А. В. |c специалист в области водородной энергетики и плазменных технологий |c ассистент Томского политехнического университета |f 1983- |g Алена Викторовна |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |c (2009- ) |9 26305 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20160628 |g RCR | |
| 850 | |a 63413507 | ||
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825 | |
| 942 | |c BK | ||