Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 253-255] |
|---|---|
| Tác giả chính: | |
| Tác giả của công ty: | |
| Tác giả khác: | , |
| Tóm tắt: | Заглавие с титульного экрана The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. |
| Ngôn ngữ: | Tiếng Nga |
| Được phát hành: |
2016
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825 |
| Định dạng: | Điện tử Chương của sách |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618134 |
| Tóm tắt: | Заглавие с титульного экрана The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties. |
|---|