Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 43-45] |
|---|---|
| Hovedforfatter: | |
| Institution som forfatter: | |
| Andre forfattere: | |
| Summary: | Заглавие с титульного экрана The article gives a look on researches of various parameters influence (power sources, oxygen flow,the pressure in the chamber and so on) on the magnetron sputtering system work using the method of titanium sputtering in the atmosphere of oxygen. The use of different power sources influences on the deposition rate and film properties. |
| Sprog: | russisk |
| Udgivet: |
2016
|
| Fag: | |
| Online adgang: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25875 |
| Format: | MixedMaterials Electronisk Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618016 |