Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 43-45] |
|---|---|
| Prif Awdur: | |
| Awdur Corfforaethol: | |
| Awduron Eraill: | |
| Crynodeb: | Заглавие с титульного экрана The article gives a look on researches of various parameters influence (power sources, oxygen flow,the pressure in the chamber and so on) on the magnetron sputtering system work using the method of titanium sputtering in the atmosphere of oxygen. The use of different power sources influences on the deposition rate and film properties. |
| Iaith: | Rwseg |
| Cyhoeddwyd: |
2016
|
| Pynciau: | |
| Mynediad Ar-lein: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25875 |
| Fformat: | Electronig Pennod Llyfr |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618016 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 618016 | ||
| 005 | 20260903115950.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\16377 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\16376 | ||
| 090 | |a 618016 | ||
| 100 | |a 20160517d2016 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС |d Dependence of titanium oxide deposition modes and parameters of magnetron system power supply |f М. А. Андреева, Ю. Н. Юрьев |g науч. рук. Ю. Н. Юрьев | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с титульного экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 45 (4 назв.)] | ||
| 330 | |a The article gives a look on researches of various parameters influence (power sources, oxygen flow,the pressure in the chamber and so on) on the magnetron sputtering system work using the method of titanium sputtering in the atmosphere of oxygen. The use of different power sources influences on the deposition rate and film properties. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16353 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2016 | |
| 463 | 0 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16354 |t Т. 1 : Физика |v [С. 43-45] |d 2016 | |
| 510 | 1 | |a Dependence of titanium oxide deposition modes and parameters of magnetron system power supply |z eng | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a оксид титана | |
| 610 | 1 | |a питание | |
| 610 | 1 | |a магнетронное распыление | |
| 610 | 1 | |a магнетронные разряды | |
| 610 | 1 | |a источники | |
| 700 | 1 | |a Андреева |b М. А. | |
| 701 | 1 | |a Юрьев |b Ю. Н. |c специалист в области водородной энергетики |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета, младший научный сотрудник |f 1984- |g Юрий Николаевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30543 |9 14839 | |
| 702 | 1 | |a Юрьев |b Ю. Н. |c специалист в области водородной энергетики |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета, младший научный сотрудник |f 1984- |g Юрий Николаевич |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21255 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20160809 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25875 | |
| 942 | |c BK | ||