Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 43-45] |
|---|---|
| Tác giả chính: | |
| Tác giả của công ty: | |
| Tác giả khác: | |
| Tóm tắt: | Заглавие с титульного экрана The article gives a look on researches of various parameters influence (power sources, oxygen flow,the pressure in the chamber and so on) on the magnetron sputtering system work using the method of titanium sputtering in the atmosphere of oxygen. The use of different power sources influences on the deposition rate and film properties. |
| Ngôn ngữ: | Tiếng Nga |
| Được phát hành: |
2016
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25875 |
| Định dạng: | Điện tử Chương của sách |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618016 |
| Tóm tắt: | Заглавие с титульного экрана The article gives a look on researches of various parameters influence (power sources, oxygen flow,the pressure in the chamber and so on) on the magnetron sputtering system work using the method of titanium sputtering in the atmosphere of oxygen. The use of different power sources influences on the deposition rate and film properties. |
|---|