Шепель А. Н. & Гуленко В. И. (2015). Применение кругового электрического профилирования при определении коэффициента анизотропии флишевых толщ; Творчество юных - шаг в успешное будущее. 2015.
Chicago Style (17th ed.) CitationШепель А. Н. and Гуленко В. И. Применение кругового электрического профилирования при определении коэффициента анизотропии флишевых толщ; Творчество юных - шаг в успешное будущее. 2015, 2015.
ציטוט MLAШепель А. Н. and Гуленко В. И. Применение кругового электрического профилирования при определении коэффициента анизотропии флишевых толщ; Творчество юных - шаг в успешное будущее. 2015, 2015.
אזהרה: ציטוטים אלה לעיתים לא מדויקים ב 100%.