Оптимизация процессов легирования алюминия с помощью ионно-электронно-плазменного метода; Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении

Détails bibliographiques
Parent link:	Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении.— 2015.— [С. 123-128]
Collectivité auteur:	Томский политехнический университет
Autres auteurs:	Рыгина М. Е., Крысина О. В., Тересов А. Д., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Résumé:	Заглавие с титульного экрана Modification of titanium (film) / aluminum (substrate) and silumin 25 wt.% (film)/aluminum systems are produced on the "SOLO" high-intensity pulsed electron beam at different modes of treatment. It leads to the formation of nanostructures. The hardness increased in 3 times and wear resistance in 7,5 times.
Langue:	russe
Publié:	2015
Collection:	Поверхностное упрочнение и защитные покрытия
Sujets:	труды учёных ТПУ электронный ресурс оптимизация процессов легирование алюминий
Accès en ligne:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18256 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C39/026.pdf
Format:	Électronique Chapitre de livre
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=616409

Internet