Оптимизация процессов легирования силумина ионно-электронно-плазменным методом; Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении

書誌詳細
Parent link:Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении.— 2015.— [С. 120-123]
団体著者: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
その他の著者: Рыгина М. Е., Крысина О. В., Тересов А. Д., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
要約:Заглавие с титульного экрана
The surface morphology, chemical composition, microstructure, nanohardness, and tribological properties of a film silumin on aluminum were investigated. The film (Al-25% Si) / substrate (Al-12% Si) has modificated by ion-electron-plasma method. The wear resistance and hardness of a slight increase in 1.3 times.
言語:ロシア語
出版事項: 2015
シリーズ:Поверхностное упрочнение и защитные покрытия
主題:
オンライン・アクセス:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18254
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C39/025.pdf
フォーマット: 電子媒体 図書の章
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=616407

類似資料