Оптимизация процессов легирования силумина ионно-электронно-плазменным методом; Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении
| Parent link: | Материалы и технологии новых поколений в современном материаловедении.— 2015.— [С. 120-123] |
|---|---|
| Erakunde egilea: | |
| Beste egile batzuk: | , , , |
| Gaia: | Заглавие с титульного экрана The surface morphology, chemical composition, microstructure, nanohardness, and tribological properties of a film silumin on aluminum were investigated. The film (Al-25% Si) / substrate (Al-12% Si) has modificated by ion-electron-plasma method. The wear resistance and hardness of a slight increase in 1.3 times. |
| Hizkuntza: | errusiera |
| Argitaratua: |
2015
|
| Saila: | Поверхностное упрочнение и защитные покрытия |
| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18254 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C39/025.pdf |
| Formatua: | Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=616407 |