Reducing the value of transient contact resistance due to deposition of copper coatings on aluminum samples by plasmodynamic method; German-Russian Forum Nanotechnology

Detalles Bibliográficos
Parent link:	German-Russian Forum Nanotechnology.— 2013.— [P. 47]
Autor Principal:	Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП)
Outros autores:	Saigash A. S. Anastasiya Sergeevna, Kolganova J. L. Julia Leonidovna
Summary:	Title screen.
Idioma:	inglés
Publicado:	2013
Subjects:	труды учёных ТПУ электронный ресурс
Acceso en liña:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C100/003.pdf
Formato:	Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613653

Internet