Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка) интенсивным импульсным электронным пучком: структура и свойства; Перспективы развития фундаментальных наук

Detalles Bibliográficos
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 1094-1096]
Autor Principal:	Рыгина М. Е.
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Outros autores:	Крысина О. В. (научный руководитель), Тересов А. Д., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Summary:	Заглавие с экрана The miksing of system a film (Ti)/substrate (Al) is carried out by an intensive electron beam. The radiation modes allowing to increase microhardness and reduction in the rate of wear of material are revealed. Physical justification of this phenomenon is given.
Idioma:	ruso
Publicado:	2015
Series:	Наноматериалы и нанотехнологии
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ легирование поверхности алюминий титан облучение пленки подложки импульсные электронные пучки структура свойства
Acceso en liña:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19080 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/348.pdf
Formato:	MixedMaterials Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613183

Internet