Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка) интенсивным импульсным электронным пучком: структура и свойства; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 1094-1096] |
|---|---|
| Κύριος συγγραφέας: | |
| Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: | |
| Άλλοι συγγραφείς: | , , |
| Περίληψη: | Заглавие с экрана The miksing of system a film (Ti)/substrate (Al) is carried out by an intensive electron beam. The radiation modes allowing to increase microhardness and reduction in the rate of wear of material are revealed. Physical justification of this phenomenon is given. |
| Γλώσσα: | Ρωσικά |
| Έκδοση: |
2015
|
| Σειρά: | Наноматериалы и нанотехнологии |
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19080 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/348.pdf |
| Μορφή: | Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613183 |