Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка) интенсивным импульсным электронным пучком: структура и свойства; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 1094-1096] |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | |
| সংস্থা লেখক: | |
| অন্যান্য লেখক: | , , |
| সংক্ষিপ্ত: | Заглавие с экрана The miksing of system a film (Ti)/substrate (Al) is carried out by an intensive electron beam. The radiation modes allowing to increase microhardness and reduction in the rate of wear of material are revealed. Physical justification of this phenomenon is given. |
| ভাষা: | রুশ |
| প্রকাশিত: |
2015
|
| মালা: | Наноматериалы и нанотехнологии |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19080 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/348.pdf |
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায় |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613183 |