Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка) интенсивным импульсным электронным пучком: структура и свойства; Перспективы развития фундаментальных наук

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 1094-1096]
Main Author: Рыгина М. Е.
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Other Authors: Крысина О. В. (научный руководитель), Тересов А. Д., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Summary:Заглавие с экрана
The miksing of system a film (Ti)/substrate (Al) is carried out by an intensive electron beam. The radiation modes allowing to increase microhardness and reduction in the rate of wear of material are revealed. Physical justification of this phenomenon is given.
Language:Russian
Published: 2015
Series:Наноматериалы и нанотехнологии
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19080
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/348.pdf
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613183
Description
Physical Description:1 файл(484 Кб)
Summary:Заглавие с экрана
The miksing of system a film (Ti)/substrate (Al) is carried out by an intensive electron beam. The radiation modes allowing to increase microhardness and reduction in the rate of wear of material are revealed. Physical justification of this phenomenon is given.