Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка), интенсивным импульсным электронным пучком - анализ тепловых процессов; Перспективы развития фундаментальных наук

Легирование поверхности алюминия титаном посредством облучения системы Ti (пленка) / Al (подложка), интенсивным импульсным электронным пучком - анализ тепловых процессов; Перспективы развития фундаментальных наук

Бібліографічні деталі
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 1091-1093]
Автор:	Рыгина М. Е.
Співавтор:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Інші автори:	Иванова О. В. (научный руководитель), Иконникова И. А., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Резюме:	Заглавие с экрана Computer simulation of temperature fields formed in the radiation of system film/substrate intense electron beam irradiation. Essential distinctions in formation of a temperature field in films of the titan located on aluminum and in a massive sample of the titan are revealed.
Мова:	Російська
Опубліковано:	2015
Серія:	Наноматериалы и нанотехнологии
Предмети:	электронный ресурс труды учёных ТПУ легирование поверхности алюминий титан облучение пленки подложки импульсные пучки электронные пучки тепловые процессы
Онлайн доступ:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19079 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/347.pdf
Формат:	Електронний ресурс Частина з книги
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613181

Інтернет

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19079
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/347.pdf